[发明专利]一种半自动清洗控制装置

说明书

技术领域

本发明涉及半导体设备领域，尤其涉及一种半自动清洗控制装置。

背景技术

在集成电路的制造过程中，需要对盛放硅晶片的是石英件进行清洗，或对集成电路中的其他器件进行清洗，以去除石英件表面的氧化膜、沉积膜或附着物。传统的清洗方法，是将清洗器件放入清洗槽中，通过人工加酸，人工浸酸计时，人工排酸，人工加水，人工浸水计时的过程对器件进行清洗。由于整个清洗流程，全部由人工操作完成，容易出现操作人员浸酸计时不准确，加水量不足等情况导致器件没有清洗干净，或器件浸酸时长过长导致器件报废等情况。

现有技术中通过人工操作对器件进行清洗，容易出现由于操作人员的操作失误导致器件未清洗干净，或导致器件清洗报废的情况。

发明内容

本发明实施例提供一种半自动清洗控制装置，用以解决现有技术中通过人工操作对器件进行清洗，容易出现由于操作人员的操作失误导致器件未清洗干净，或导致器件清洗报废的问题。

本发明实施例提供了一种半自动清洗控制装置，该装置包括：

信号控制单元，用于接收到开始触发信号，触发向第一计时单元发送计时信号；以及接收到排液完成信号，进行复位处理；

第一计时单元，用于接收到计时信号后，触发开始计时，计时时长达到第一设定时长后，触发向排液计时控制单元发送计时完成信号；

排液计时控制单元，用于接收到计时完成信号，触发控制排水阀开启，进行排液处理，排液完成后触发向所述信号控制单元发送排液完成信号。

上述实施例中通过第一计时单元自动记录清洗时长，到达设定时长后通知排液计时控制装置自动排液，降低了由于操作人员操作失误导致器件报废的概率。

本发明实施例中所述排液计时控制单元具体用于：

触发控制排水阀开启后，对排液时长进行计时；所述排液时长达到第二设定时长后，触发控制排水阀关闭，确定排液完成。

上述实施例中通过排液计时控制单元，对排液时长进行计时，并根据排液时长自动控制排水阀的开关，实现了自动排液，降低了人工计时错误导致的器件报废的概率。

本发明实施例中所述排液计时控制单元还用于：

所述排液计时控制单元还用于：

确定排液完成之后，触发清洗次数计数值加1，确定当前清洗次数计数值已达到设定的清洗次数计数阈值，触发向所述信号控制单元发送排液完成信号，并将清洗次数计数值归0；

确定当前清洗次数计数值未达到设定的清洗次数计数阈值，触发启动下一次清洗。

该装置还包括加液计时控制单元；

所述排液计时控制单元触发启动下一次清洗，具体用于：所述排液计时控制单元触发向加液计时控制单元发送加液控制信号；

所述加液计时控制单元具体用于：接收到所述加液控制信号，触发补水阀开启并添加液体。

所述加液计时控制单元还用于：

对添加液体的加液时长进行计时，所述加液时长达到设定加液时长阈值后，触发关闭补水阀。

该装置还包括第二计时单元；

所述加液计时控制单元还用于：触发关闭补水阀后，触发向所述第二计时单元发送浸液计时信号；

所述第二计时单元，具体用于：接收到浸液计时信号后，触发开始计时浸液时长，所述浸液时长达到第三设定时长后，触发向所述排液计时控制单元发送计时完成信号；

所述排液计时控制单元，具体用于：接收到计时完成信号后，触发控制排水阀开启。

上述实施例中，根据排液计时控制单元记录的清洗次数计数值判断是否达到设定值，确定是否继续进行清洗，避免了由于人工计数错误，导致器件未清洗干净，或过度清洗，实现了清洗的半自动化。

本发明实施例中所述信号控制单元包括开始按键，接收到开始触发信号后，触发开始按键锁定；

所述信号控制单元具体用于：接收到排液完成信号，触发对开始按键进行复位处理。

上述实施例中信号控制单元根据开始按键的状态，确定是否对接收到的信号进行处理，避免了人工误操作。