[发明专利]用于干法刻蚀设备的电极及其制备方法、干法刻蚀设备有效
| 申请号： | 201410443527.1 | 申请日： | 2014-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN104332380B | 公开（公告）日： | 2017-08-25 |
| 发明（设计）人： | 陈程;吕艳明 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人： | 柴亮,张天舒 |
| 地址： | 230012 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 刻蚀 设备 电极 及其 制备 方法 | ||
1.一种用于干法刻蚀设备的电极，其特征在于，包括电极基体和贴合于该电极基体表面的保护层；所述的保护层具有与电极基体相匹配的结构，所述电极基体具有上表面和周边的侧面，所述侧面和所述上表面均被所述保护层所覆盖；
所述保护层采用绝缘材料制备；
所述绝缘材料包括聚酰亚胺材料。
2.根据权利要求1所述的用于干法刻蚀设备的电极，其特征在于，所述保护层远离电极基体的上表面的一侧的表面具有多个凸起。
3.根据权利要求2所述的用于干法刻蚀设备的电极，其特征在于，所述保护层在所述的多个凸起之间具有与所述电极基体的上表面相对应的通孔。
4.根据权利要求3所述的用于干法刻蚀设备的电极，其特征在于，所述的通孔包括供冷却气体通过的气孔和供机械手通过的针孔。
5.如权利要求1-4任一项所述的用于干法刻蚀设备的电极的制备方法，其特征在于，包括：
将电极基体表面清洁；
将保护层贴合于电极基体表面。
6.根据权利要求5所述的用于干法刻蚀设备的电极的制备方法，其特征在于，所述将保护层贴合于电极基体表面包括：在贴合前向保护层面向电极基体一侧的表面涂覆粘合剂。
7.根据权利要求5所述的用于干法刻蚀设备的电极的制备方法，其特征在于，所述将保护层贴合于电极基体表面包括：在电极基体表面清洁后，在电极基体的表面形成液体膜。
8.一种干法刻蚀设备，其特征在于，包括如权利要求1-4任一项所述的电极，所述电极设置于待刻蚀基板下方用于支撑所述的待刻蚀基板，并与设置于待刻蚀基板上方的电极形成刻蚀电场。
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