[发明专利]一种基于薄膜晶体管的反相器有效

专利信息
申请号: 201410442661.X 申请日: 2014-09-03
公开(公告)号: CN104201175B 公开(公告)日: 2017-02-15
发明(设计)人: 黄晓东;黄见秋 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088
代理公司: 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙)32249 代理人: 杨晓玲
地址: 211189 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 薄膜晶体管 反相器
【权利要求书】:

1.一种基于薄膜晶体管的反相器,其特征在于:包括串联的第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管;所述第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管结构相同,均包括衬底(10),设在衬底上的底栅(11),设在衬底(10)上并且覆盖底栅(11)的栅氧化层(12),设在栅氧化层(12)上的沟道层(13),设在沟道层(13)上相对两侧的源极(14)、漏极(15),设在沟道层(13)上以及源极(14)、漏极(15)上的隧穿层(21),设在隧穿层(21)上的存储层(22),设在存储层(22)上的阻挡层(23),以及设在阻挡层(23)上的顶栅(16),所述顶栅(16)位于底栅(11)正上方。

2.根据权利要求1所述的一种基于薄膜晶体管的反相器,其特征在于:所述第一薄膜晶体管为增强型晶体管,第二薄膜晶体管为耗尽型晶体管。

3.根据权利要求1所述的一种基于薄膜晶体管的反相器,其特征在于:所述隧穿层(21)为二氧化硅,厚度在3 nm~15 nm。

4.根据权利要求1所述的一种基于薄膜晶体管的反相器,其特征在于:所述存储层(22)为氮化硅、二氧化铪或氮氧化铪,厚度在2 nm~10 nm。

5.根据权利要求1所述的一种基于薄膜晶体管的反相器,其特征在于:所述阻挡层(23)为三氧化二铝,厚度在10 nm~50 nm。

6.根据权利要求1所述的一种基于薄膜晶体管的反相器,其特征在于:所述衬底(10)为玻璃、绝缘聚合物或覆盖有氧化层的硅片。

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