[发明专利]一种硼化锆-碳化硅超细复合粉体及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201410436144.1 申请日: 2014-08-29
公开(公告)号: CN104193339A 公开(公告)日: 2014-12-10
发明(设计)人: 李发亮;张海军;张少伟;鲁礼林;段红娟 申请(专利权)人: 武汉科技大学
主分类号: C04B35/58 分类号: C04B35/58;C04B35/626
代理公司: 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 代理人: 张火春
地址: 430081 *** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 硼化锆 碳化硅 复合 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于无机非金属材料超细复合粉体技术领域。具体涉及一种硼化锆-碳化硅超细复合粉体及其制备方法。

背景技术

ZrB2-SiC陶瓷材料具有耐高温、抗氧化烧蚀、抗冲刷、室温及高温力学性能良好等优异性能,是超高温应用领域最具潜力的候选材料,有望用于高超声速长时飞行、大气层再入、跨大气层飞行、火箭推进系统及熔炼电极、熔炼坩埚等极端热化学环境中。当前,ZrB2-SiC陶瓷的制备主要是以ZrB2粉和SiC粉为原料,经机械混合、高温烧结而成。该种方法容易在混料过程中引入杂质,同时,由于ZrB2粉和SiC粉的活性较低,需要较高的烧成温度。采用ZrB2-SiC复合粉体为原料制备ZrB2-SiC陶瓷可以很好地解决上述问题。研究表明,原料粉体晶粒越细小,所制备陶瓷材料的硬度、抗弯强度、断裂韧性等常温和高温力学性能越优良。纳米陶瓷甚至被认为是解决结构陶瓷材料脆性差、韧性和强度低等缺陷的战略途径。因而,具有良好性能的高纯、超细ZrB2-SiC复合粉体是制备高性能ZrB2/SiC超高温陶瓷的基础。

ZrB2-SiC超细复合粉体的制备方法主要有碳热还原法、自蔓延高温合成法和放电等离子反应法等。这些方法虽有其明显的优点,但也都存在一定的不足。

碳热还原法是以氧化锆、硼酸、硅溶胶为原料、以炭黑为还原剂、在电炉中加热至1300℃以上合成ZrB2-SiC超细复合粉体的方法。该法操作简单、原料取材广泛。但是,往往需要高的热处理温度、反应时间长,生成的ZrB2-SiC超细复合粉体径分布不均匀、团聚严重。自蔓延高温合成法(SHS)是一种依赖物质反应自身放热,在极短的时间合成目标产物的工艺。自蔓延高温合成法具有设备简单、能耗低、高效、反应时间短的优点,但是该方法所得粉体颗粒粗大、团聚严重且反应过程难以控制。放电等离子烧结法(SPS)是近些年来倍受重视的一种材料制备新技术。放电等离子反应法具有升温速度快、反应时间短、冷却迅速以及节能环保等优点。但是,反应过程、产物结构及性能不易控制,且产物纯度不高、团聚严重,同时设备投入大,难以形成规模化生产。

综上所述,现有的硼化锆-碳化锆超细复合粉体的制备技术存在的不足是:成本高、反应温度高、过程不易控制、工艺过程复杂、产率低、合成粉体的纯度较低、粉体颗粒粒径分布不均匀和粉体颗粒容易团聚等,极大地限制了硼化锆-碳化锆超细复合粉体的产业化生产。

发明内容

本发明旨在克服现有技术的不足,目的是提供一种反应温度低、成本低、合成工艺简单、过程易于控制、产率高的硼化锆-碳化硅超细复合粉体的制备方法。用该方法制备的硼化锆-碳化硅超细复合粉体活性高、颗粒团聚小、粉体粒径分布均匀、纯度高和产业化生产的前景大。

为实现上述目的,本发明采用的技术方案是:先将64~85wt%的卤化物粉、4~15wt%的氧化锆粉、2~5wt%的氧化硅粉、2~6wt%的氧化硼粉、0.3~1.1wt%的炭粉和6~10wt%的镁粉混合均匀,机压成型;再将成型后的坯体置于电炉中,在氩气气氛和升温速率为2~8℃/min的条件下升温至1000~1250℃,保温2~6小时,得到烧成后的坯体;然后将烧成后的坯体用蒸馏水洗涤,洗涤后放入浓度为1.0~4.0mol/L的盐酸中浸泡3~8小时,过滤,用去离子水清洗,在80℃条件下干燥11~24小时,粉碎,即得硼化锆-碳化硅超细复合粉体。

所述卤化物粉为氯化钾粉和氯化钠粉的混合物;氯化钾和氯化钠均为工业纯或均为分析纯,氯化钾和氯化钠的粒径均≤200μm。

所述氧化锆粉中的ZrO2含量≥99wt%,粒径≤100μm。

所述氧化硅粉中的SiO2含量≥95wt%,粒径≤100μm。

所述氧化硼粉中的B2O3含量≥99wt%,粒径≤100μm。

所述碳粉中的C含量≥98wt%,粒径≤200μm。

所述金属镁粉中的Mg含量≥99wt%,粒径≤150μm。

由于采用上述技术方案,本发明与现有技术相比具有如下积极效果:

1、本发明在熔融盐中实现反应物原子尺度的混合,使反应成分在液相中的流动性增强,扩散速率显著提高,能有效控制反应进程、降低反应温度和缩短反应时间;

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