[发明专利]热敏电阻用金属氮化物材料及制法和薄膜型热敏电阻传感器有效
申请号: | 201410427720.6 | 申请日: | 2014-08-27 |
公开(公告)号: | CN104425089B | 公开(公告)日: | 2018-05-18 |
发明(设计)人: | 藤田利晃;田中宽;长友宪昭 | 申请(专利权)人: | 三菱综合材料株式会社 |
主分类号: | H01C7/02 | 分类号: | H01C7/02 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 康泉;王珍仙 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 热敏电阻 金属 氮化物 材料 制法 薄膜 传感器 | ||
1.一种热敏电阻,其特征在于,
由以通式:(M
所述金属氮化物的结晶结构为六方晶系的纤锌矿型的单相。
2.根据权利要求1所述的热敏电阻,其特征在于,
所述金属氮化物形成为膜状,
并且为沿垂直于所述膜的表面的方向延伸的柱状结晶。
3.根据权利要求1或2所述的热敏电阻,其特征在于,
所述金属氮化物形成为膜状,
在垂直于所述膜的表面的方向上,c轴的取向强于a轴的取向。
4.一种薄膜型热敏电阻传感器,其特征在于,具备:
绝缘性薄膜;
薄膜热敏电阻部,在该绝缘性薄膜上由权利要求1至3中任一项所述的金属氮化物形成;及
一对图案电极,至少形成在所述薄膜热敏电阻部的上侧或下侧。
5.一种热敏电阻的制造方法,其特征在于,其是制造权利要求1至3中任一项所述的热敏电阻的方法,
具有使用M-A-Al合金溅射靶在含氮及氧的气氛中进行反应性溅射而成膜的成膜工序,其中,M表示选自Ti、V、Cr、Mn、Fe及Co中的至少一种,并且A表示选自Mn、Cu、Ni、Fe及Co中的至少一种且与所选的所述M不同的元素。
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