[发明专利]局部强化方法以及装置有效

专利信息
申请号: 201410421104.X 申请日: 2014-08-25
公开(公告)号: CN105049772B 公开(公告)日: 2018-02-13
发明(设计)人: 彭源智 申请(专利权)人: 恒景科技股份有限公司
主分类号: H04N7/01 分类号: H04N7/01;G06T5/40
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 史新宏
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 局部 强化 方法 以及 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种图像处理技术,以及特别涉及一种局部对比强化技术。

背景技术

各种图像强化方法用以改善图像的质量。其中一种图像强化方法为对比强化。对比强化为一种用以改善图像中的对比的程序。相较于全域对比强化,局部对比强化可显示出图像更多的细节。对局部对比强化而言,首先将图像切割为多个区块,接着对每个区块执行直方图算法的程序,并根据区块的转换函数(对比强化函数)将区块中的像素的亮度值进行转换。由于区块间的平均亮度不同使得经过直方图算法计算过后的图像看起来并不一致。

发明内容

本发明一实施例提供一种局部强化方法,步骤包括:将一图像切割为多个区块,其中上述区块具有一第一区块以及一第二区块;分别产生对应于上述区块的直方图;根据对应的上述直方图分别产生区块的强化函数,其中强化函数至少包括第一区块的一第一局部强化函数以及第二区块的一第二局部强化函数;以及对区块中的每个像素而言:根据第一局部强化函数产生第一区块的目前像素的第一强化像素值;根据第二局部强化函数产生第二区块的目前像素的第二强化像素值,其中第二区块与第一区块相邻;以及根据第一强化像素值以及第二强化像素值产生目前像素的最终强化像素值。

本发明另一实施例提供一种局部强化装置,包括一区块分割器、一区块直方图产生器、一区块强化函数产生器、一垂直内插器以及一水平内插器。区块分割器用以将一图像分割为多个区块,其中上述区块至少包括一第一区块、一第二区块、一第三区块以及一第四区块,第二区块与第一区块水平相邻,第三区块与第一区块垂直相邻,以及第四区块与第三区块水平相邻。区块直方图产生器用以分别产生对应于上述区块的直方图。区块强化函数产生器用以根据对应的直方图分别产生对应于上述区块的强化函数,其中强化函 数至少包括第一区块的一第一强化函数、第二区块的一第二强化函数、第三区块的一第三强化函数,以及第四区块的一第四强化函数。垂直内插器用以根据第一强化函数以及第三强化函数产生第一区块的目前像素的一第一垂直内插像素值,以及根据第二强化函数以及第四强化函数产生第一区块的目前像素的一第二垂直内插像素值。水平内插器用以将第一垂直内插像素值以及第二垂直内插像素值进行水平内插以产生目前像素的一强化像素值。

本发明另一实施例提供一种局部强化装置,包括一强化模块、一内插模块以及一匹配单元。强化模块用以将一图像分割为多个区块,并产生上述方块的直方图以产生对应的强化函数,其中上述区块至少包括一第一区块以及一第二区块,第二区块与第一区块水平相邻,以及上述强化函数至少包括第一方块的一第一强化函数以及第二方块的一第二强化函数。内插模块用以藉由对第一强化函数以及第二强化函数内插系数以产生第一区块的目前像素的一内插强化函数。匹配单元用以藉由将像素提供至内插强化函数以产生一强化像素值。

以下配合附图对实施例提出详细的叙述。

附图说明

本发明的各部分可藉由下列的详述结合附图以及参考范例而清楚地理解,其中:

图1是显示根据本发明优选实施例所述局部对比强化方法的流程图。

图2为本发明所述局部对比强化所执行的图像。

图3是显示根据区块中的一个的对比强化函数的范例曲线。

图4是显示根据本发明的第二实施例所述局部强化装置的方块图。

图5是显示根据本发明的第三实施例所述局部强化装置的示意图。

【符号说明】

100~局部对比强化方法

200~图像

300~局部强化装置

310~区块分割器

320~区块直方图产生器

330~区块强化函数产生器

340~垂直内插器

350~水平内插器

400~局部强化装置

410~强化模块

420~内插模块

422~垂直内插单元

424~存储单元

426~水平内插单元

430~匹配单元

BH~高

BW~宽

h~垂直距离

L~扫描线

P~像素

S102、S104、S106、S108、S110、S112~步骤流程

W0-W24~区块

MUX-0-MUX-N~乘法器

具体实施方式

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于恒景科技股份有限公司,未经恒景科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410421104.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top