[发明专利]一种触控面板结构及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201410411032.0 申请日: 2014-08-20
公开(公告)号: CN104156118A 公开(公告)日: 2014-11-19
发明(设计)人: 黄永振;沈效龙;张国强;黄孝宁;王术军;刘骥 申请(专利权)人: 山东华芯富创电子科技有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041
代理公司: 济南泉城专利商标事务所 37218 代理人: 褚庆森
地址: 250102 山东省济南市*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 面板 结构 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种触控面板结构,包括基板(1)、遮蔽层(2)、第一导电层(4)、第二导电层(7)和绝缘层(5),基板包括分别背向、朝向显示装置的第一面和第二面,遮蔽层形成于基板的第一面上,遮蔽层上设置有用于暴露基板的镂空区域,遮蔽层和暴露的基板上形成有第一消影层(3);第一导电层位于第一消影层上,绝缘层位于第一导电层与第二导电成之间,第一导电层内有若干间隔设置且相互平行的第一电极,第二导电层内有若干间隔设置且相互平行的第二电极,第一电极与第二电极成一定夹角但不同向,第一电极与第二电极上下相对区域形成可感知是否被触碰的感应电容;触控面板的控制芯片通过检测第一电极和第二电极间的电容变化得出触控面板的触碰位置;其特征在于:所述绝缘层上形成有第二消影层(6),第二导电层位于第二消影层上;所述第二导电层的上表面上形成有透明的保护层(8),保护层的折射率大于第一导电层和第二导电层的折射率。

2.根据权利要求1所述的触控面板结构,其特征在于:所述保护层(8)的折射率比第一导电层(4)和第二导电层(7)的折射率大0.12以上。

3.根据权利要求1所述的触控面板结构,其特征在于:所述保护层(8)的材质为                                               ,其可采用溅镀或涂布的方式形成于第二导电层(7)上。

4.根据权利要求1或2所述的触控面板结构,其特征在于:当第一导电层(4)和第二导电层(7)由或透明导电氧化物组成时,所述保护层(8)的折射率介于1.9~2.4之间。

5.根据权利要求1或2所述的触控面板结构,其特征在于:当第一导电层(4)和第二导电层(7)由银金属纳米线和金属网格组成时,所述保护层(8)的折射率介于1.6~2.1之间。

6.根据权利要求1或2所述的触控面板结构,其特征在于:所述第一消影层(3)和第二消影层(6)均由两层结构形成,第一层为朝向基板(1)的层或层,第二层为背向基板的层。

7.根据权利要求6所述的触控面板结构,其特征在于:所述第一层的层或层的厚度为3~30nm,第二层的层的厚度为10~70nm。

8.根据权利要求1或2所述的触控面板结构,其特征在于:所述基板(1)为由聚对苯二甲酸乙二醇酯和强化玻璃组成的透明薄膜或透明薄板。

9.根据权利要求1或2所述的触控面板结构,其特征在于:所述绝缘层(5)为聚甲基丙烯酸甲酯、聚醚砜、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚氨酸脂或苯并环丁烯的高分子材料构成,或者由无积分金属材料构成。

10.一种权利要求1所述的触控面板结构的制造方法,其特征在于,通过以下步骤来实现:

a).制备遮蔽层,采用印刷的方式,将不透光材料印刷在基板第一面上的相应区域,基板第一面上没有被印刷的部位形成遮蔽层的镂空区域,基板的第一面可以通过镂空区域暴露出来;

b).制备第一消影层,首先在遮蔽层上和基板第一面的暴露区域上溅镀或,形成第一消影层的第一层;然后再在第一层上溅镀,形成第一消影层的第二层;

c).制备第一导电层,在第一消影层上叠置第一导电层,以形成若干间隔设置且相互平行的第一电极;

d).制备绝缘层,在第一导电层上叠置绝缘层,以便将第一导电层与第二导电层绝缘隔离开来;

e).制备第二消影层,采用与步骤b)中相同的方法在绝缘层上制备第二消影层,以减小导电层的可视程度;

f).制备第二导电成,采用与步骤c)中相同的方法在第二消影层上叠置第二导电层,以形成若干间隔设置且相互平行的第二电极,并保证第二电极与第一电极成一定夹角当不同向;

g).制备保护层,在第二导电层上叠置保护层,并保证所形成的保护层的折射率大于第一导电层和第二导电层的折射率,以最大限度地避免外界的光线穿过保护层射入到第二导电层及其以下各层。

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