[发明专利]用于薄膜感应器的线圈单元、薄膜感应器及相关制造方法有效
| 申请号: | 201410400534.3 | 申请日: | 2014-08-14 |
| 公开(公告)号: | CN104376954B | 公开(公告)日: | 2018-06-29 |
| 发明(设计)人: | 朴贞雨;姜善荷;李五熙 | 申请(专利权)人: | 三星电机株式会社 |
| 主分类号: | H01F5/00 | 分类号: | H01F5/00;H01F5/06;G06F3/044;H01F41/04 |
| 代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 金光军;孙丽妍 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 薄膜感应器 线圈图案 线圈单元 绝缘层 绝缘体 嵌入 基础层 金属层 制造 双绝缘层 上表面 下表面 粘合 | ||
1.一种用于薄膜感应器的线圈单元,包括:
第一绝缘层;
第二绝缘层,设置在所述第一绝缘层上;
第一线圈图案,嵌入在所述第一绝缘层中;以及
第二线圈图案,嵌入在所述第二绝缘层中,
其中,所述第一线圈图案由镀层形成,并且
其中,所述第二线圈图案由多个镀层形成,该多个镀层包括第一镀层、形成在所述第一镀层上的第二镀层,以及形成在所述第二镀层上的第三镀层,
其中,第一绝缘保护层形成在所述第一线圈图案的嵌在所述第一绝缘层中并从所述第一绝缘层的下表面暴露的部分中,第二绝缘保护层形成在所述第二线圈图案的嵌在所述第二绝缘层中并从所述第二绝缘层的上表面暴露的部分中。
2.根据权利要求1所述的用于薄膜感应器的线圈单元,其中,所述第一绝缘层和所述第二绝缘层使用从丙烯酸类聚合物、酚醛聚合物、聚酰亚胺中选出的至少一种材料形成,并且所述第一绝缘层和所述第二绝缘层由不同的材料形成。
3.根据权利要求1所述的用于薄膜感应器的线圈单元,进一步包括:
用于将所述第一线圈图案和所述第二线圈图案电连接的导电过孔。
4.一种薄膜感应器,包括:
根据权利要求1所述的用于薄膜感应器的线圈单元;以及
粘合至所述用于薄膜感应器的线圈单元的上表面和下表面中的至少一个的磁性材料。
5.一种用于薄膜感应器的线圈单元的制造方法,包括:
在分别通过粘结层粘合至基础层的两个表面的一对金属层的每一个上形成第一线圈图案;
形成第一绝缘层以嵌入所述第一线圈图案;
在所述第一绝缘层上形成第二线圈图案;
形成第二绝缘层,以嵌入所述第二线圈图案;以及
将所述一对金属层与所述基础层分离,
其中,所述第一线圈图案由镀层形成,并且
其中,所述第二线圈图案由多个镀层形成,该多个镀层包括第一镀层、形成在所述第一镀层上的第二镀层,以及形成在所述第二镀层上的第三镀层。
6.根据权利要求5所述的用于薄膜感应器的线圈单元的制造方法,其中,形成所述第一线圈图案的步骤包括:
在所述金属层上形成对应于所述第一线圈图案的第一镀层保护层,并且露出所述金属层的预定区域;
在所述金属层的露出区域中形成所述第一线圈图案;以及
将所述第一镀层保护层移除,并且在所述第一镀层保护层被移除的所述金属层上和所述第一线圈图案上形成所述第一绝缘层。
7.根据权利要求5所述的用于薄膜感应器的线圈单元的制造方法,其中,形成所述第二线圈图案和所述第二绝缘层的步骤包括:
在所述第一绝缘层上形成所述第二线圈图案的所述第一镀层;
在所述第一镀层和所述第一绝缘层中加工过孔;
通过对所述过孔施镀形成导电过孔;
在所述第一镀层上形成第二镀层保护层,并且露出所述第一镀层的预定区域;
在所述第一镀层的露出区域中形成所述第二线圈图案的所述第二镀层;
通过将所述第二镀层保护层以及在所述第二镀层保护层下方的所述第一镀层移除而露出所述第一绝缘层的预定区域;
在所述第一绝缘层的露出区域中以及所述第二镀层上形成所述第二绝缘层;
通过将形成于所述第二镀层上的所述第二绝缘层部分移除而露出所述第二镀层;以及
在所述第二镀层的露出区域中形成所述第二线圈图案的所述第三镀层。
8.根据权利要求5所述的用于薄膜感应器的线圈单元的制造方法,其中分离步骤包括:
通过蚀刻将所述金属层移除。
9.根据权利要求8所述的用于薄膜感应器的线圈单元的制造方法,在通过蚀刻将所述金属层移除之后,还包括:
在所述第一线圈图案的从所述第一绝缘层露出的部分中以及所述第二线圈图案的从所述第二绝缘层露出的第三镀层中形成绝缘保护层。
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