[发明专利]红外线处理装置及红外线处理方法无效

专利信息
申请号: 201410391993.X 申请日: 2014-08-11
公开(公告)号: CN104368510A 公开(公告)日: 2015-02-25
发明(设计)人: 藤田雄树 申请(专利权)人: 日本碍子株式会社
主分类号: B05D3/06 分类号: B05D3/06
代理公司: 北京北翔知识产权代理有限公司 11285 代理人: 杨勇;钟守期
地址: 日本爱知*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 红外线 处理 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种红外线处理装置,其是向薄板状的处理对象辐射红外线而进行处理的红外线处理装置,其特征在于,

所述红外线处理装置具备:

搬运单元,其用于以卷对卷方式向搬运方向搬运所述处理对象;及

红外线加热器,其具有:发热体,其通过加热而辐射红外线;管,其用于吸收超过3.5μm波长的红外线并覆盖该发热体,所述红外线加热器用于对所述处理对象辐射红外线;

冷却单元,其通过液体来冷却所述处理对象中的、来自所述红外线加热器的红外线所照射的部分。

2.根据权利要求1所述的红外线处理装置,其特征在于,

所述冷却单元可搬运地支撑所述处理对象。

3.根据权利要求1或2所述的红外线处理装置,其特征在于,

所述冷却单元具有液体流道形成构件,所述液体流道形成构件用于形成可以使所述液体流通的液体流道。

4.根据权利要求3所述的红外线处理装置,其特征在于,

所述冷却单元具有传送带,所述传送带具有用于可搬运地支撑所述处理对象、且与该处理对象一同向所述搬运方向可旋转的环状带子,

形成于所述液体流道形成构件的所述液体流道设置成,使所述液体在比所述带子的内周面更靠近内侧的位置穿过所述液体流道,

并且该液体流道形成构件和穿过所述液体流道的液体中的至少一方可接触于所述带子的内周面中的所述处理对象侧。

5.根据权利要求4所述的红外线处理装置,其特征在于,

对所述传送带而言,在所述带子形成有多个孔,

所述红外线处理装置具备吸附单元,所述吸附单元用于使所述带子的孔的内部减压而使所述处理对象吸附在所述带子。

6.根据权利要求3-5中任一项所述的红外线处理装置,其特征在于,

所述液体流道形成构件是在内部形成有所述液体流道的冷却辊。

7.根据权利要求3所述的红外线处理装置,其特征在于,

所述冷却单元具有传送带,所述传送带具有用于可搬运地支撑所述处理对象、且与该处理对象一同向所述搬运方向可旋转的环状带子,

所述带子作为在内部形成有所述液体流道的所述液体流道形成构件而构成。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的红外线处理装置,其特征在于,

所述红外线加热器配置在比所述处理对象更靠近铅垂上侧的位置。

9.根据权利要求3所述的红外线处理装置,其特征在于,

所述液体流道形成构件形成有所述液体流道,所述液体流道朝向所述处理对象侧形成开口,并且所述液体与所述处理对象直接地或间接地接触的同时可以流通在所述液体流道。

10.根据权利要求9所述的红外线处理装置,其特征在于,

所述液体流道形成构件具有弹性体,所述弹性体配置在所述开口的所述搬运方向的两端并与所述处理对象直接地或间接地接触。

11.根据权利要求9或10所述的红外线处理装置,其特征在于,

所述红外线加热器配置在所述液体流道内。

12.根据权利要求11所述的红外线处理装置,其特征在于,

所述液体的红外线的最大穿透波长在3.5μm以下的红外线区域。

13.根据权利要求12所述的红外线处理装置,其特征在于,

对所述液体流道形成构件而言,形成所述液体流道的表面由反射波长为3.5μm以下的红外线的红外线反射材料构成。

14.一种红外线处理方法,其是基于红外线处理装置的红外线处理方法,其特征在于,

所述红外线处理装置具备:

搬运单元,其用于以卷对卷方式向搬运方向搬运薄板状处理对象;及

红外线加热器,其具有:发热体,其通过加热来辐射红外线,管,其用于吸收超过3.5μm波长的红外线并覆盖该发热体,

所述红外线处理方法包括:从所述红外线加热器向所述处理对象辐射红外线,并且通过液体来冷却该处理对象中的、来自所述红外线加热器的红外线所照射的部分的工艺。

15.根据权利要求14所述的红外线处理方法,其特征在于,

在减压状态下或真空状态下的气氛中进行所述工艺。

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