[发明专利]一种像素单元及其制作方法、显示面板、显示装置

权利要求书

1.一种像素单元，包括：第一电极、像素界定层、发光层和第二电极，其中，所述第二电极包括第一部分和第二部分；所述像素界定层限定出像素区域，所述发光层和所述第二电极的第一部分依次设置在所述像素区域内，且所述第二电极的第一部分与所述像素界定层的上表面基本位于同一平面；所述第二电极的第二部分位于所述第一部分上方，且与其他像素单元的第二电极连接。

2.如权利要求1所述的像素单元，其中，所述第二电极的第一部分与所述像素界定层的上表面基本位于同一平面是指所述第二电极的第一部分与所述像素界定层的高度差介于(-200nm，200nm)范围之内。

3.如权利要求1所述的像素单元，其中，所述第二电极的第二部分还形成在所述像素界定层之上。

4.如权利要求3所述的像素单元，其中，所述第二电极的第二部分形成在部分或全部的所述像素界定层之上。

5.如权利要求1所述的像素单元，其中，所述第一电极为阳极，所述第二电极为阴极。

6.一种显示面板，其包括如权利要求1-5任一项所述的像素单元。

7.一种显示装置，其包括如权利要求6所述的显示面板。

8.一种像素单元的制作方法，其包括：

形成第一电极；

形成像素界定层，对其图形化，使得所述像素界定层限定出像素区域；

在所述像素区域内形成发光层；

在发光层上形成第二电极的第一部分，使得所述第二电极的第一部分上表面与所述像素界定层的上表面基本位于同一平面；

在第二电极的第一部分上形成第二电极的第二部分，所述第二电极的第二部分与其他像素单元的第二电极连接。

9.如权利要求8所述的制作方法，其中，所述第二电极的第一部分上表面与所述像素界定层的上表面基本位于同一平面是指所述第二电极的第一部分与所述像素界定层的高度差介于(-200nm，200nm)范围之内。

10.如权利要求8所述的制作方法，其中，所述第二电极的第一部分通过方块式高精度金属掩膜板制成。

11.如权利要求8-10任一项所述的制作方法，其中，所述第二电极的第二部分采用狭缝式高精度金属掩膜板制成。

12.如权利要求8-10任一项所述的制作方法，其中，所述第二电极的第二部分采用开口式掩膜板制成。