[发明专利]柔性基板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201410384338.1 申请日: 2014-08-06
公开(公告)号: CN105336870B 公开(公告)日: 2017-07-07
发明(设计)人: 夏先海;陈一鸣;黄添旺 申请(专利权)人: 上海和辉光电有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司72003 代理人: 王芝艳,冯志云
地址: 201500 上海市金山区*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 柔性 制造 方法 oled
【说明书】:

技术领域

发明涉及显示技术领域,特别涉及一种柔性基板及其制造方法以及柔性OLED。

背景技术

有机发光二极管(OLED)因其能耗低、分辨率高、亮度高、发光效率高、响应速度快、视角宽、不需背光源、成本低、驱动电压低等诸多优点,在平板显示和光源等领域具有广泛的研究、应用前景。

让显示器可以自由弯曲已经成为未来各种智能应用的屏幕的发展趋势。特别地,OLED具有全固态特性,无真空腔,无液态成分,机械性能好,抗震动性强,使用塑料、聚酯薄膜或胶片作为基板,OLED屏可以做到更薄,甚至可以折叠或卷起来,可实现柔性软屏显示和柔性光源,其中聚酰亚胺(PI)材料具有较多优异性能而作为柔性基板开发的首选。

目前柔性聚酰亚胺基板对水、氧的阻隔主要通过在柔性基板表面沉积多层堆叠结构的无机薄膜,亦或者采用聚酰亚胺/无机膜交替堆叠的结构。图1示出了一种传统柔性基板的结构,其自下而上包括玻璃基板、聚酰亚胺层、氧化硅层、氮化硅层、氧化硅层以及氮化硅层,采用了氧化硅层/氮化硅层多层堆叠的结构;图2示出了另一种传统柔性基板的结构,其自下而上包括玻璃基板、聚酰亚胺层、氧化硅层、聚酰亚胺层以及氧化硅层,采用了聚酰亚胺/无机膜交替堆叠的结构。

但以上两种方法均存在一些问题,前者聚酰亚胺薄膜的内应力较大,会导致玻璃基板弯曲,且不同无机膜层界面处容易引起应力集中,导致在弯曲或折叠过程中发生破裂或失去阻隔水汽和氧气的能力;后者是在同一块玻璃基板上制备两次聚酰亚胺薄膜,由于涂布聚酰亚胺薄膜之后即需对其进行烘烤处理(OVEN POST-Baking),单次烘烤处理时间大于6小时,聚酰亚胺/无机膜交替堆叠结构的制备方法用时太久,不适于工业化生产,同时图2所示的结构中下层聚酰亚胺薄膜需经过多次烘烤,会导致其内应力增加,进而导致玻璃基板翘曲。

发明内容

本发明的目的就是针对现有技术存在的缺点,提出一种平整性好、水氧透过率低、粘附性能强的柔性基板。

一方面,本发明提供一种柔性基板,包括:

玻璃基板;

第一聚酰亚胺层,设置于所述玻璃基板之上;

第一铁纳米层,设置于所述第一聚酰亚胺层之上;

第一无机层,设置于所述第一铁纳米层之上;

第二铁纳米层,设置于所述第一无机层之上;

第二无机层,设置于所述第二铁纳米层之上;

第三铁纳米层,设置于所述第二无机层之上;以及

第二聚酰亚胺层,设置于所述第三铁纳米层之上。

在本发明的柔性基板的一个实施方式中,所述第一聚酰亚胺层和所述第二聚酰亚胺层的厚度为10μm~25μm。

在本发明的柔性基板的另一个实施方式中,所述第一铁纳米层和所述第三铁纳米层的厚度为1nm~5nm。

在本发明的柔性基板的另一个实施方式中,所述第二铁纳米层的厚度为1nm~10nm。

在本发明的柔性基板的另一个实施方式中,所述第一无机层和所述第二无机层的材料为氧化硅或氧化铝。

在本发明的柔性基板的另一个实施方式中,所述第一无机层和所述第二无机层的厚度为10nm~20nm。

另一方面,本发明提供一种柔性基板的制造方法,包括:

形成第一部分柔性基板;

形成第二部分柔性基板;

将所述第一部分柔性基板与所述第二部分柔性基板相对压合,

其中,形成所述第一部分柔性基板包括:

在第一玻璃基板上形成第一聚酰亚胺层;

在所述第一聚酰亚胺层上形成第一铁纳米层;

在所述第一铁纳米层上形成第一无机层;以及

在所述第一无机层上形成第二铁纳米层,

形成所述第二部分柔性基板包括:

在第二玻璃基板上形成第二聚酰亚胺层;

在所述第二聚酰亚胺层上形成第三铁纳米层;

在所述第三铁纳米层上形成第二无机层;以及

在所述第二无机层上形成第四铁纳米层。

在本发明的制造方法的一个实施方式中,通过狭缝式涂布或旋转涂布的方式形成所述第一聚酰亚胺层和所述第二聚酰亚胺层。

在本发明的制造方法的另一个实施方式中,所述第一聚酰亚胺层和所述第二聚酰亚胺层的厚度为10μm~25μm。

在本发明的制造方法的另一个实施方式中,在形成所述第一铁纳米层之前还包括对所述第一聚酰亚胺层进行表面活化处理,在形成所述第三铁纳米层之前还包括对所述第二聚酰亚胺层进行表面活化处理。

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