[发明专利]玻璃结构的制造方法与设备

权利要求书

1.一种玻璃结构的制造方法，其特征在于，包含：

提供一玻璃基材；

形成一陶瓷前驱物层覆盖在该玻璃基材的一表面上；以及

对该陶瓷前驱物层进行一激光回火处理，以将该陶瓷前驱物层结晶化成一陶瓷膜。

2.根据权利要求1所述的玻璃结构的制造方法，其特征在于，于进行该激光回火处理的步骤前，还包含对该玻璃基材的该表面进行一等离子处理，以清洁该玻璃基材的该表面的多个毛细孔。

3.根据权利要求2所述的玻璃结构的制造方法，其特征在于，形成该陶瓷前驱物层的步骤包含使该陶瓷前驱物层渗入所述毛细孔中。

4.根据权利要求1所述的玻璃结构的制造方法，其特征在于，形成该陶瓷前驱物层的步骤包含利用一喷涂方式、一浸润涂布方式、或一喷墨涂布方式。

5.根据权利要求1所述的玻璃结构的制造方法，其特征在于，该陶瓷前驱物层的材料包含金属、金属氧化物、金属碳氧化物、金属碳化物、及/或其混合物。

6.根据权利要求1所述的玻璃结构的制造方法，其特征在于，该陶瓷前驱物层的材料包含一主成分与一副成分，该主成分包含氧化硅、氧化铝、氧化钙、及/或氧化镁，且该副成分包含铁、钛、锰、铅或稀土元素。

7.根据权利要求1所述的玻璃结构的制造方法，其特征在于，形成该陶瓷前驱物层的步骤包含多个形成一致密陶瓷前驱物薄膜的步骤，每一所述形成该致密陶瓷前驱物薄膜的步骤包含：

形成一陶瓷前驱物薄膜；以及

对该陶瓷前驱物薄膜进行一预烘烤步骤，以形成该致密陶瓷前驱物薄膜。

8.一种玻璃结构的制造设备，其特征在于，包含：

一传送机构，适用以传送一玻璃基材；

一涂布装置，设于该传送机构的上方，且适用以形成一陶瓷前驱物层于该玻璃基材的一表面上；以及

一激光回火装置，设于该传送机构的上方，且适用以对该玻璃基材的该表面上的该陶瓷前驱物层进行一激光回火处理。

9.根据权利要求8所述的玻璃结构的制造设备，其特征在于，还包含一等离子装置，设于该传送机构的上方，且适用以在该陶瓷前驱物层涂布于该玻璃基材的该表面上之前，对该玻璃基材的该表面进行一等离子处理。

10.根据权利要求8所述的玻璃结构的制造设备，其特征在于，该涂布装置包含：

一涂布单元，适用以涂布一陶瓷前驱物薄膜于该玻璃基材的该表面上；以及

一烘烤单元，适用以对该陶瓷前驱物薄膜进行一预烘烤处理。