[发明专利]一种抛光机

说明书

技术领域

本发明创造涉及一种抛光机。

背景技术

通常情况下工件在加工成型后，表面会凹凸不平，很粗糙，不美观也影响使用，因此需要对工件进行抛光处理。一般抛光机包括输送工件的输送系统和对工件进行抛光的抛光机构，只能对工件进行简单的抛光处理，由于这种传统的抛光机只配置了抛光系统，在抛光时，掉落的粉末容易影响抛光机工作致使抛光不均匀等达不到实际的抛光效果等问题，需要再次抛光，降低了抛光工作效率。

发明内容

本发明创造要解决的问题是抛光过程中产生的粉末影响抛光机工作，致使抛光效果不好。

为解决上述技术问题，本发明创造采用的技术方案是：一种抛光机，包括固定支架、输送系统、抛光系统和清洁系统，其特征在于所述的输送系统、抛光系统与清洁系统连接在固定支架上，所述的输送系统包括输送带和输送驱动组件，该输送带做步进式循环运动，所述的抛光系统包括抛光驱动组件、主动轮、从动轮和抛光砂带，抛光砂带张紧附在主动轮和从动轮上，所述的清洁系统包括环形毛刷和清洁驱动组件，所述的抛光系统、清洁系统之间的距离与所述输送带的步进距离相适配，清洁系统与抛光系统数量一致。

进一步，所述的两个抛光系统的抛光砂带颗粒粗细不同，分为粗砂带和细砂带，粗砂带在前，细砂带在后。

进一步，所述的环形毛刷直径与输送带宽度一致，并绕其轴做圆周运动。

进一步，所述的输送系统的的输送带有支撑平台，所述的支撑平台与固定支架固定连接。

本发明创造具有的优点和积极效果是：

1、抛光系统后面紧跟着清洁系统，可以有效清除抛光后残留在工件上的粉末，避免影响第二次抛光和，也避免对工件进行清洗，提升了抛光效果。

2、两个抛光系统的砂带颗粒粗细不同，可以对工件进行粗抛和细抛，使得抛光效果更均匀，也提高了抛光效率。

附图说明

图1是本发明创造主视图

图2是本发明创造右视图

图中：

1固定支架2抛光系统3主动轮a4从动轮b5输送系统6主动轮c7从动轮d8输送带9粗砂带10细砂带11清洁系统12支撑平台

具体实施方式

如图1-2所示，一种抛光机，包括固定支架1、输送系统5、抛光系统2和清洁系统11，其特征在于所述的输送系统5、抛光系统2与清洁系统11连接在固定支架上，所述的清洁系统11紧跟在抛光系统2之后，所述的输送系统5位于清洁系统11和抛光系统2的下方，所述的输送系统5包括输送带8和输送驱动组件，该输送带8做步进式循环运动，所述的抛光系统2包括抛光驱动组件、主动轮3、从动轮4和抛光砂带，抛光砂带张紧附在主动轮3和从动轮4上，所述的清洁系统11包括环形毛刷和清洁驱动组件，所述的抛光系统2、清洁系统11之间的距离与所述输送带的步进距离相适配，清洁系统11与抛光系统2数量一致。

本发明创造的工作过程：将工件放置在支撑平台12上的输送带8上，工件在输送系统5带动下做步进式运动，第一步运动到抛光系统2下对工件进行粗抛，抛光结束后第二步运动到清洁系统11下对工件进行清洁，之后第三步运动到下一抛光系统2下对工件进行细抛，第四步运动到清洁系统11下对工件进行再次清洁，最后将工件输送到成品区。

以上对本发明创造的实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本发明创造的较佳实施例，不能被认为用于限定本发明的实施范围。凡依本发明创造范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本专利涵盖范围之内。