[发明专利]光学防伪元件及具有该光学防伪元件的防伪产品

权利要求书

1.一种光学防伪元件，包括：

基材；

位于所述基材上的表面浮雕结构层；以及

位于所述表面浮雕结构层上的镀层；

其中，所述表面浮雕结构层由多个组元叠加形成，每一个组元包括平坦区和由多个光栅单元形成的浮雕结构区，任意两个组元中的任意光栅单元不共位，任意两个组元中的光栅单元的参数不同，以及任意两个组元中的平坦区不完全重叠。

2.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述多个组元中的每个组元中的光栅单元的参数大致相同。

3.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述平坦区为图案区，所述浮雕结构区为背景区。

4.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述光栅单元是以下的至少一者：锯齿光栅、正弦光栅、矩形光栅。

5.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述光栅单元的面积比所述表面浮雕结构层的面积小至少一个数量级。

6.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述参数包括光栅的形状、周期、深度、取向中的至少一者。

7.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述多个组元分别对应于不同的观察角度。

8.根据权利要求7所述的光学防伪元件，其中，所述多个组元中的平坦区的形状和/或尺寸相同。

9.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述镀层包括以下镀层中的任意一种或组合：单层金属镀层；多层金属镀层；由吸收层、低折射率介质层和反射层依次堆叠形成的镀层，其中该反射层或吸收层与所述表面浮雕结构层相接触；高折射率介质层镀层；由高折射率介质层、低折射率介质层和高折射率介质层依次堆叠形成的多介质层镀层；以及由吸收层、高折射率介质层和反射层依次堆叠形成的镀层，其中，该反射层或吸收层与所述表面浮雕结构层相接触。

10.一种具有根据权利要求1至9中任意一项所述的光学防伪元件的防伪产品。