[发明专利]一种晶振片清洗方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种清洗方法，特别是涉及一种晶振片清洗方法。

背景技术

晶振片来源于多面体石英棒，在使用中晶振片常常被回收过之后进行重新利用。但是回收回来的晶振片在处理过后在再次被利用的时候常常因为处理效果不好，影响后续的使用。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种晶振片清洗方法，能够使使用过后的晶振片经过重新处理，能够再次进行使用，节约成本。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种晶振片清洗方法，分为以下操作步骤：配置晶振片清洗溶液，将溶液放置于清洗装置中。将晶振片放入清水中进行初步清洗，然后将晶振片放入装好清洗液的清洗装置中，对装置中放入晶振片的部位进行真空处理，然后对放入晶振片的停留时间为3-5个小时。侵泡后捞出用清水清洗，进行晾晒，然后再将晶振片放入酒精中，侵泡3-5分钟，捞出后擦拭干净。 

在本发明一个较佳实施例中，所述清稀溶液为中包含有氟化氢铵。

在本发明一个较佳实施例中，所述氟化氢铵的含量为15-20%。

在本发明一个较佳实施例中，清洗装置为超声波清洗机。

在本发明一个较佳实施例中，所述清洗机的振动频率为40-60HZ。

本发明的有益效果是：能够使使用过后的晶振片经过重新处理，能够再次进行使用，节约成本。

具体实施方式

下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例包括：

一种晶振片清洗方法，包含以下操作步骤：配置晶振片清洗溶液，将溶液放置于清洗装置中。

将晶振片放入清水中进行初步清洗，然后将晶振片放入装好清洗液的清洗装置中，对装置中放入晶振片的部位进行真空处理，然后对放入晶振片的停留时间为3-5个小时。

侵泡后捞出用清水清洗，进行晾晒，除去表面的水分，然后再将晶振片放入酒精中，侵泡3-5分钟，捞出后擦拭干净。 

所述清稀溶液为中包含有氟化氢铵，所述氟化氢铵的含量为15-20%，具体优选为18%。

清洗装置为超声波清洗机，且将所述清洗机的振动频率为40-60HZ，能够进一步的提升清洗效果。

本发明晶振片清洗方法的有益效果是：

1、能够使使用过后的晶振片经过重新处理，节约成本；

2、能够得到清洗干净的晶振片，有利于再次使用。

以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。