[发明专利]一种掩膜板检测装置和方法

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示器制造过程中的掩膜板处理领域，尤其涉及一种掩膜板检测装置和方法。

背景技术

薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)以其具有高画质、空间利用率高、低消耗功率、无辐射等众多优点成为市场的主流。在制备TFT-LCD过程中，多次涉及到掩膜刻蚀工艺，例如彩色滤光片的制造、阵列基板的制造等，都需要使用掩膜板(Mask)进行曝光显影工艺。

传统的曝光工艺中，经常会由于掩模板Mask表面存在微小的异物，减小了掩膜板开口区域光的透过性，使得显影后形成的图形Pattern存在共同缺陷。

目前还没有一种简便的方法能够迅速检测出Mask表面是否有微小的异物及异物存在的位置，因此需要经常清洗Mask，费时费力。有时甚至在清洗Mask后，微小异物依然存在，如不能及时检出，会对产能及良率有很大的影响。

发明内容

本发明的目的是提供一种掩膜板检测装置和方法，能够确定掩膜板表面是否存在微小异物，并确定微小异物所在的区域，防止因微小异物引起显影后形成的图形存在共同缺陷而造成的损失。

为了实现上述目的，本发明实施例提供了一种掩膜板检测装置，所述装置包括：

设置在检测板表面的多个光敏电阻，其中所述掩膜板上每个透光区域的位置与所述光敏电阻的作用区域对应；

所述检测板用于当平行光通过所述掩膜板上的透光区域照射到所述多个光敏电阻上时，检测所述多个光敏电阻的电阻值，并判断所述多个光敏电阻的电阻值是否超过标准值，当所述多个光敏电阻中的第一光敏电阻的电阻值超过标准值时，反馈与所述第一光敏电阻的作用区域对应的所述掩膜板上的第一透光区域的位置信息。

上述的掩膜板检测装置，其中，所述光敏电阻的两侧设置有触头，且所述光敏电阻通过所述触头设置在所述检测板表面。

上述的掩膜板检测装置，其中，所述掩膜板上每个透光区域的面积相同时，所述标准值为经过所述平行光照射后的所述多个光敏电阻中的最小电阻值。

上述的掩膜板检测装置，其中，所述掩膜板上透光区域的面积不同，但具有相同分布规律时，所述标准值为经过所述平行光照射后的所述多个光敏电阻中的最小电阻值，其中具有最小电阻值的光敏电阻对应的透光区域的面积与所述第一光敏电阻对应的透光区域的面积相同。

上述的掩膜板检测装置，其中，所述检测板的面积不小于所述掩膜板的面积。

上述的掩膜板检测装置，其中，所述平行光的照射面积不小于所述掩膜板的面积。

上述的掩膜板检测装置，其中，当所述平行光的照射面积小于所述掩膜板的面积时，采用所述平行光对所述掩膜板进行扫描照射。

上述的掩膜板检测装置，其中，所述装置还包括：

绝缘板，设置在所述多个光敏电阻与所述检测板之间。

为了实现上述目的，本发明实施例还提供了一种掩膜板检测方法，所述方法包括：

在检测板表面设置多个光敏电阻，其中所述掩膜板上每个透光区域的位置与所述光敏电阻的作用区域对应；

当平行光通过所述掩膜板上的透光区域照射到所述多个光敏电阻上时，所述检测板检测所述多个光敏电阻的电阻值；

所述检测板判断所述多个光敏电阻的电阻值是否超过标准值，获得判断结果；

当所述判断结果指示所述多个光敏电阻中的第一光敏电阻的电阻值超过标准值时，所述检测板反馈与所述第一光敏电阻的作用区域对应的所述掩膜板上的第一透光区域的位置信息。

上述的掩膜板检测方法，其中，所述检测板检测所述多个光敏电阻的电阻值具体为：

所述检测板测量所述光敏电阻两端的电压值；

所述检测板测量流过所述光敏电阻的电流值；

所述检测板根据所述电压值和所述电流值计算所述光敏电阻的电阻值。

上述的掩膜板检测方法，其中，所述掩膜板上每个透光区域的面积相同时，所述标准值为经过所述平行光照射后的所述多个光敏电阻中的最小电阻值。

上述的掩膜板检测方法，其中，所述掩膜板上透光区域的面积不同，但具有相同分布规律时，所述标准值为经过所述平行光照射后的所述多个光敏电阻中的最小电阻值，其中具有最小电阻值的光敏电阻对应的透光区域的面积与所述第一光敏电阻对应的透光区域的面积相同。

上述的掩膜板检测方法，其中，所述检测板的面积不小于所述掩膜板的面积。

上述的掩膜板检测方法，其中，所述平行光的照射面积不小于所述掩膜板的面积。