[发明专利]一种等温淬火炉拍打装置有效

专利信息
申请号: 201410367273.X 申请日: 2014-07-29
公开(公告)号: CN104087723A 公开(公告)日: 2014-10-08
发明(设计)人: 戴日明;张君;戴婧 申请(专利权)人: 安徽省宁国市东波紧固件有限公司
主分类号: C21D1/20 分类号: C21D1/20
代理公司: 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙) 34119 代理人: 程笃庆;黄乐瑜
地址: 242300 安徽省宣城*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 等温 淬火 拍打 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及机械加工领域,尤其涉及一种等温淬火炉拍打装置。

背景技术

在机械加工领域,通常将工件送入等温淬火炉中进行淬火处理,从而能够增强工件的强度、硬度、韧性、耐磨性和塑性。然而,在等温淬火炉运行过程中,工件容易粘连在传送网带上,由此造成产品的混料风险,从而影响工件产品的质量,降低生产效率。

发明内容

为解决背景技术中存在的技术问题,本发明提出一种等温淬火炉拍打装置,其结构简单,能够对等温淬火炉中的工件传送网带进行连续敲打,保证经淬火工件及时下落,避免混料的发生。

本发明提出的一种等温淬火炉拍打装置,包括:支架、拍打机构、驱动机构;

支架固定在等温淬火炉出料口处;

拍打机构包括枢轴、转轴、拍打件,枢轴和转轴在支架上水平放置,枢轴垂直于等温淬火炉的出料方向,拍打件枢接在枢轴上且可围绕枢轴转动,其远离枢轴的末端向等温淬火炉的所述出料口内延伸且所述末端抵靠在等温淬火炉内的传送网带上,转轴位于枢轴下方且与枢轴平行,转轴的侧壁上设有支撑件,支撑件从转轴的侧壁径向伸出且其位置与拍打件相对应;

驱动机构驱动转轴转动,转轴随驱动机构转动,当转轴上的支撑件支撑拍打件时,拍打件末端远离等温淬火炉内的传送网带,当转轴上的支撑件不接触拍打件时,拍打件末端抵靠在传送网带上。

优选地,支架上设有限位件,拍打件可通过限位件固定在支架上。

优选地,包括多个拍打件和分别与每个拍打件对应的多个支撑件。

优选地,多个支撑件位于转轴的不同的轴截面上。

本发明中,所提出的等温淬火炉拍打装置,其包括固定在等温淬火炉出料口处的支架,支架上设有拍打机构和驱动机构,拍打机构由具有拍打件的枢轴和具有支撑件的转轴构成。通过对等温淬火炉拍打装置进行优化设计,其结构简单,驱动机构通过驱动转轴使拍打件对等温淬火炉的传送网带进行持续敲打,保证经淬火的工件及时下落,防止工件重新进入进料口进行二次淬火,避免了混料的发生。

附图说明

图1为本发明提出的一种等温淬火炉拍打装置的结构示意图。

具体实施方式

如图1所示,图1为本发明提出的一种等温淬火炉拍打装置的结构示意图。

参照图1,本发明提出的一种等温淬火炉拍打装置,包括:支架1、拍打机构2、驱动机构3;

支架1固定在等温淬火炉出料口处,支架1上设有限位件11;

拍打机构2包括枢轴21、转轴22、六个拍打件23,枢轴21和转轴22在支架1上水平放置,枢轴21垂直于等温淬火炉的出料方向,六个拍打件23依次枢接在枢轴21上且可围绕枢轴21转动,其远离枢轴21的末端向等温淬火炉的所述出料口内延伸且拍打件23末端抵靠在等温淬火炉内的传送网带4上,拍打件23可通过限位件11固定在支架1上,便于在等温淬火炉的出料口处进行检修,转轴22位于枢轴21下方且与枢轴21平行,转轴22的侧壁上设有六个支撑件24,六个支撑件24从转轴22的侧壁径向伸出且位于转轴22的不同轴截面上,六个支撑件24的位置分布与六个拍打件23相对应;

驱动机构3包括驱动马达31、驱动轮32、从动轮33,从动轮33固定在转轴22上,驱动马达31通过驱动轮32和从动轮33驱动转轴22转动。

在本实施例的等温淬火炉拍打装置具体工作过程中,启动驱动马达31,转轴22随从动轮33和驱动轮32转动,当转轴22上的支撑件24转到支撑拍打件23的位置时,拍打件23被支撑件24支撑,其末端远离传送网带4,当转轴22上的支撑件24位于远离拍打件23的位置时,拍打件23的末端抵靠在传送网带4上,由此,随着驱动马达31的工作,使得六个拍打件23依次敲打传送网带4,实现对传送网带的持续敲打,从而保证经淬火工件的及时下落。

在本实施例中,所提出的等温淬火炉拍打装置,其包括固定在等温淬火炉出料口处的支架,支架上设有拍打机构和驱动机构,拍打机构由具有拍打件的枢轴和具有支撑件的转轴构成。通过对等温淬火炉拍打装置进行优化设计,其结构简单,驱动机构通过驱动转轴使拍打件对等温淬火炉的传送网带进行持续敲打,保证经淬火的工件及时下落,防止工件重新进入进料口进行二次淬火,避免了混料的发生。

以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。

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