[发明专利]一种纳米管材料的制备方法

权利要求书

1.一种纳米管材料的制备方法，其特征在于包括：

提供包含至少一纳米孔的模板，并在所述纳米孔内生长牺牲材料；

生长保护材料，至少用以掩盖所述牺牲材料的一端面；

至少去除模板的部分层面材料，至少使部分牺牲材料和所述保护材料从模板中露出；

围绕自所述模板中露出的牺牲材料生长选定材料，从而形成纳米管结构。

2.根据权利要求1所述的纳米管材料的制备方法，其特征在于还包括：至少去除所述牺牲材料和保护材料，获得所述纳米管材料。

3.根据权利要求1-2中任一项所述的纳米管材料的制备方法，其特征在于包括：至少采用电化学沉积、无电沉积方式中的任一种生长所述选定材料从而形成所述纳米管结构。

4.根据权利要求1-2中任一项所述的纳米管材料的制备方法，其特征在于还包括：至少选用物理沉积、化学沉积或电化学沉积方式在所述纳米孔内生长牺牲材料。

5.根据权利要求4所述的纳米管材料的制备方法，其特征在于还包括：至少在所述模板的局部表面设置用作电化学沉积的工作电极的导电层，并使所述导电层至少覆盖所述纳米孔的另一端面。

6.根据权利要求1所述的纳米管材料的制备方法，其特征在于所述模板包括层叠设置的第一模板和至少一第二模板，所述第一模板中的至少一纳米孔还与所述第二模板中的相应纳米孔连接形成至少一连续纳米孔。

7.根据权利要求6所述的纳米管材料的制备方法，其特征在于包括：提供包含至少一纳米孔的第一模板，并至少在所述第一模板上生长形成第二模板，同时至少在第一模板的纳米孔和第二模板内连续生长至少一纳米柱状的牺牲材料。

8.根据权利要求6或7所述的纳米管材料的制备方法，其特征在于包括：除去叠设于第一模板上的至少一第二模板，使部分牺牲材料自第一模板中露出。

9.根据权利要求1所述的纳米管材料的制备方法，其特征在于所述选定材料包括金属或金属氧化物、非金属材料中的任一种或两种以上的组合。

10.根据权利要求1-2、5-7中任一项所述的纳米管材料的制备方法，其特征在于包括：至少采用物理或化学溶解、物理或化学刻蚀方式中的任意一种至少除去所述模板的表层区域。

11.根据权利要求1-2、5-7中任一项所述的纳米管材料的制备方法，其特征在于所述模板采用包含复数个纳米孔的多孔模板。