[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 201410355555.8 申请日: 2014-07-24
公开(公告)号: CN104166280A 公开(公告)日: 2014-11-26
发明(设计)人: 姚琪;张锋;曹占锋;舒适 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343;G02F1/1333
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 阵列 及其 制备 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,包括:呈阵列状排列的多个像素单元,每个所述像素单元包括相对设置的第一透明电极和彩色滤光单元,其特征在于,

相邻的所述彩色滤光单元的边缘交叠设置,形成交叠区域;

所述第一透明电极和所述彩色滤光单元之间设置有第一绝缘层,相邻的所述第一透明电极之间设有凸起,所述凸起至少包括所述第一绝缘层中对应所述交叠区域的部分,且所述凸起的顶点高于所述第一透明电极的上表面。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述凸起为所述第一绝缘层中对应所述交叠区域的部分。

3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述凸起包括第一凸起部和位于所述第一凸起部上方的第二凸起部;其中,

所述第一凸起部由相邻的所述彩色滤光单元的交叠区域构成,所述第二凸起部为所述第一绝缘层中对应所述交叠区域的部分。

4.根据权利要求1-3任一所述的阵列基板,其特征在于,还包括:衬底基板,设于所述衬底基板上的多条栅线和多条数据线;所述凸起与至少一条所述栅线对应,和/或,所述凸起与至少一条所述数据线对应。

5.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述凸起高出所述第一透明电极的上表面的高度为1μm~2μm,所述凸起的宽度大于所述栅线的宽度,所述凸起的宽度与所述栅线的宽度之差为3μm~6μm,所述凸起的宽度大于所述数据线的宽度,所述凸起的宽度与所述数据线的宽度之差为3μm~6μm。

6.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,还包括黑矩阵,所述黑矩阵位于相邻的所述像素单元之间,并与所述凸起对应。

7.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,每个所述像素单元还包括:位于所述第一透明电极上方的第二透明电极,设于所述第二透明电极和所述第一透明电极之间的第二绝缘层;

所述凸起还包括第二绝缘层中对应所述交叠区的部分,所述凸起的顶点高于所述第二透明电极的上表面。

8.根据权利要求7所述的阵列基板,其特征在于,所述第一透明电极为像素电极,所述第二透明电极为公共电极,或,所述第一透明电极为公共电极,所述第二透明电极为像素电极。

9.根据权利要求8所述的阵列基板,其特征在于,所述凸起包括:第一凸起部,位于所述第一凸起部上方的第二凸起部,位于所述第二凸起部上方的第三凸起部;其中,

所述第一凸起部由相邻的所述彩色滤光单元的交叠区域构成;所述第二凸起部为所述第一绝缘层中对应所述交叠区域的部分;所述第三凸起部为所述第二绝缘层中对应所述交叠区域的部分。

10.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-9任一项所述的阵列基板。

11.一种阵列基板的制备方法,其特征在于,包括:

形成彩色滤光层,所述彩色滤光层包括呈阵列状排列的多个彩色滤光单元,相邻的所述彩色滤光单元的颜色不同,且相邻的所述彩色滤光单元的边缘交叠设置,形成交叠区域;

在所述彩色滤光层上形成第一绝缘层和凸起,所述凸起至少包括所述第一绝缘层中对应所述交叠区域的部分;

在所述第一绝缘层上形成呈阵列状排列的多个所述第一透明电极,每个所述第一透明电极与一个所述彩色滤光单元对应;所述凸起位于相邻的所述第一透明电极之间,且所述凸起的顶点高于所述第一透明电极的上表面。

12.根据权利要求11所述的阵列基板的制备方法,其特征在于,在所述彩色滤光层上形成第一绝缘层和凸起的步骤,其中所述凸起的制备方法具体包括:

在所述彩色滤光层上形成绝缘膜层;

通过构图工艺形成第一绝缘层和所述第一绝缘层对应所述交叠区域的凸起。

13.根据权利要求11所述的阵列基板的制备方法,其特征在于,在所述彩色滤光层上形成第一绝缘层和凸起的步骤,其中所述凸起的制备方法具体包括:

相邻的所述彩色滤光单元的边缘交叠形成第一凸起部;

形成所述第一绝缘层时在所述第一凸起部上自然形成第二凸起部。

14.根据权利要求11-13任一所述的阵列基板的制备方法,其特征在于,还包括:

在所述多个第一透明电极上形成第二绝缘层;

在所述第二绝缘层上形成多个第二透明电极,其中,所述凸起还包括所述第二绝缘层中对应所述交叠区的部分,所述凸起的顶点高于所述第二透明电极的上表面。

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