[发明专利]纳米二氧化硅薄膜基抛光片及其制备方法

权利要求书

1.一种纳米二氧化硅薄膜基抛光片的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

(1)在盐酸存在的条件下，向二氧化硅醇溶液中加入表面改性剂和水，搅拌加热反应完全后得到纳米硅溶胶；

(2)将第一可溶性树脂和第一可溶性固化剂涂布于PET基片上形成预涂层，固化后得到处理过的基材；

(3)将步骤(1)得到的纳米硅溶胶、第二可溶性树脂和第二可溶性固化剂混合后，得到磨料涂布液；

(4)将步骤(3)得到的磨料涂布液均匀涂布于步骤(2)处理过的基材上，然后在80～100℃固化40～60小时，得到所述的纳米二氧化硅薄膜基抛光片。

2.根据权利要求1所述的纳米二氧化硅薄膜基抛光片的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述的二氧化硅醇溶液为日产化学的IP-ST，所述的表面活性剂为KH-570。

3.根据权利要求1所述的纳米二氧化硅薄膜基抛光片的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，纳米硅溶胶中的硅粒子的粒径为50～140nm。

4.根据权利要求1所述的纳米二氧化硅薄膜基抛光片的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述的第一可溶性树脂为可溶性环氧树脂、可溶性酚醛树脂、可溶性聚酯和可溶性聚氨酯中的至少一种；

所述的第一可溶性固化剂为可溶性环氧固化剂，可溶性酚醛固化剂或者异氰酸酯。

5.根据权利要求4所述的纳米二氧化硅薄膜基抛光片的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述的第一可溶性树脂为南亚环氧树脂909，所述的第一固化剂为德国拜耳N3390，所述第一固化剂的用量为第一可溶性树脂质量的1～5％。

6.根据权利要求1所述的纳米二氧化硅薄膜基抛光片的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，所述的第二可溶性树脂为可溶性环氧树脂、可溶性酚醛树脂、可溶性聚酯和可溶性聚氨酯中的至少一种；

所述的第二可溶性固化剂为可溶性环氧固化剂，可溶性酚醛固化剂或者异氰酸酯。

7.根据权利要求6所述的纳米二氧化硅薄膜基抛光片的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，所述的第二可溶性树脂为质量比为1～3：1的山东圣泉EXP0334和南亚环氧树脂909的组合；

所述的第二可溶性固化剂为德国拜耳N3390，与所述的第二可溶性树脂的质量比为0.02～0.1：1。

8.根据权利要求6所述的纳米二氧化硅薄膜基抛光片的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，所述的纳米硅溶胶与第二可溶性环氧树脂的质量比为100：15～40。

9.根据权利要求1所述的纳米二氧化硅薄膜基抛光片的制备方法，其特征在于，步骤(3)中，所述的磨料涂布液涂布的厚度为5-10μm。

10.一种纳米二氧化硅薄膜基抛光片，其特征在于，由权利要求1～9任一项所述的制备方法制备得到。