[发明专利]光配向膜及其制备方法、液晶显示基板和装置

权利要求书

1.一种光配向膜的制备方法，其特征在于，包括：

在基板上涂覆光配向材料膜层；

对涂覆的所述光配向材料膜层进行预固化；

对预固化后的所述光配向材料膜层用线偏振光照射，以形成具有配向功能的光配向材料膜层；

对所述具有配向功能的光配向材料膜层进行主固化，在所述具有配向功能的光配向材料膜层发生固化反应的同时清除所述固化反应生成的反应副产物，得到所述光配向膜。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述得到所述光配向膜之后，还包括对所述光配向膜进行清洗，以进一步清除所述光配向膜中残留的反应副产物。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述方法在所述形成具有配向功能的光配向材料膜层后进一步包括：

对所述具有配向功能的光配向材料膜层进行清洗，以清除在偏振光照射时形成的配向副产物；

对所述具有配向功能的光配向材料膜层进行主固化，在所述具有配向功能的光配向材料膜层发生固化反应的同时进一步清除所述固化反应生成的反应副产物。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述光配向材料为由芳香族二胺与环丁烷四酸二酐及其衍生物反应生成的聚酰亚胺，其中，所述聚酰亚胺的重复单元具有如下结构：

或

其中，A为所述芳香族二胺中的芳香族基团，R₅、R₆、R₇、R₈均为甲基。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，

所述芳香族二胺选自通式(1)-(15)中的至少一种：

其中，R₁、R₂、R₃、R₄独立的选自H、F、C1～C6烷基、C1～C6烷氧基、乙烯基或乙炔基中的一种；

其中，所述乙烯基结构式为-(CH₂)_m-CH＝CH₂，m为0、1或2，

所述乙炔基结构式为-(CH₂)_n-CH≡CH，n为0、1或2，

通式(4)中的X为选自-S-、-CO-、-NH-中任意一种的结合基。

6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述环丁烷四酸二酐及其衍生物的通式(16)如下：

其中，R₅、R₆、R₇、R₈独立的选自H、F、C1～C6烷基、C1～C6烷氧基。

7.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述光配向膜包含光降解型配向膜、光异构型配向膜、光聚合型配向膜中的一种或多种。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述进行预固化的步骤温度为50-120℃，时间为0.5-10分钟。

9.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述进行主固化的步骤温度为180-300℃，时间为5分钟-2小时。

10.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述线偏振光的波长选自254nm、313nm和365nm中的一种或几种的组合。

11.根据权利要求2或3所述的制备方法，其特征在于，所述清洗采用超声波清洗、大气压等离子清洗、浸泡清洗、喷淋清洗中的一种或多种清洗方法。

12.根据权利要求2或3所述的制备方法，其特征在于，所述清洗所使用的清洗剂包括臭氧水溶液、氟气水溶液、氯气水溶液、溴气水溶液、碘水溶液、过氧化氢、水、乙醇、异丙醇、乳酸乙酯、丙二醇甲醚醋酸酯中的一种或多种。

13.一种根据权利要求1-12任一项所述的光配向膜的制备方法制备得到的光配向膜。

14.一种液晶显示基板，其特征在于，包括根据权利要求1-12任一项所述的光配向膜的制备方法制备得到的光配向膜。

15.一种液晶显示装置，其特征在于，包括权利要求14所述的液晶显示基板。