[发明专利]基于氧化还原偶对减轻流体流动驱动的电化学表面降解

权利要求书

1.一种在液压系统中使用的液压流体，所述流体包含：

磷酸酯基化合物，和

添加剂；其中所述添加剂包括氧化还原偶对，所述氧化还原偶对包括茂金属偶对，

其中所述氧化还原偶对包含具有分子式：M(Ar)2+/0的夹层化合物，其中M是过渡金属并且Ar是芳基化合物。

2.根据权利要求1所述的流体，其中所述氧化还原偶对被选择为在所述液压流体中为氧化电流和还原电流二者都提供优先通道。

3.根据权利要求1或2所述的流体，其中所述氧化还原偶对包含具有分子式：M(Cp)2+/0的茂金属偶对，其中M是过渡金属并且Cp是包含环茂二烯的化合物。

4.根据权利要求3所述的流体，其中所述过渡金属选自Fe、Co、Mn、Cr、Ni和V。

5.根据权利要求1或2所述的流体，其中所述氧化还原偶对选自Fe(环戊二烯)2+与Fe(环戊二烯)20；Fe(五甲基环戊二烯)2+与Fe(五甲基环戊二烯)20；Ni(环戊二烯)2+与Ni(环戊二烯)20；Co(环戊二烯)2+与Co(环戊二烯)20；十甲基二茂铁盐+与十甲基二茂铁0；和Fe(五甲基环戊二烯)2+与Fe(五甲基环戊二烯)20。

6.一种液压系统，其包括：

磷酸酯基液压流体，和

添加剂；其中所述添加剂包括氧化还原偶对，所述氧化还原偶对包括茂金属偶对，

其中所述氧化还原偶对包含具有分子式：M(Ar)2+/0的夹层化合物，其中M是过渡金属并且Ar是芳基化合物。

7.根据权利要求6所述的系统，其中所述氧化还原偶对被选择为在所述液压系统中为氧化电流和还原电流二者都提供优先通道。