[发明专利]用于清洗受污染光学元件的氢原子收集装置与清洗方法

权利要求书

1.用于清洗受污染光学元件的氢原子收集装置，其特征在于，该装置包括：氢原子发生器(1)、石英椭球镜收集腔(2)、加热带(3)和样品夹(4)，所述的氢原子发生器(1)与石英椭球镜收集腔(2)的一端连接，且氢原子发生器(1)的出气口设置于石英椭球镜收集腔(2)的一个焦点处，样品夹(4)中心位置设置于石英椭球镜收集腔(2)的另外一个焦点处，所述的加热带(3)设置在石英椭球镜收集腔(2)的外表面。

2.根据权利要求1所述的用于清洗受污染光学元件的氢原子收集装置，其特征在于，所述的石英椭球镜收集腔(2)内表面面形精度为1nm～0.5nm，测量精度为0.1nm。

3.根据权利要求1所述的用于清洗受污染光学元件的氢原子收集装置，其特征在于，所述的加热带(3)梯度降温分布在石英椭球镜收集腔(2)的外表面。

4.根据权利要求1或3所述的用于清洗受污染光学元件的氢原子收集装置，其特征在于，所述的加热带(3)的材质为银丝材料。

5.根据权利要求1-3任何一项所述的用于清洗受污染光学元件的氢原子收集装置，其特征在于，所述的装置还包括样品夹支架(5)，样品夹(4)设置在样品夹支架(5)上，样品夹支架(5)与石英椭球镜收集腔(2)的另一端连接。

6.采用权利要求1所述的装置清洗受污染光学元件的方法，其特征在于，该方法包括：

步骤一：将氢原子发生器(1)与石英椭球镜收集腔(2)的一端连接，使氢原子发生器(1)的出气口设置于石英椭球镜收集腔(2)的一个焦点处；

步骤二：将待清洗样品安装在样品夹(4)上，使待清洗样品设置于石英椭球镜收集腔(2)的另外一个焦点处；

步骤三：在石英椭球镜收集腔(2)外表面缠绕梯度降温的加热带(3)，并将氢气通入氢原子发生器(1)中，将氢原子引入石英椭球镜收集腔(2)中，氢原子被反射到石英椭球镜收集腔(2)的另外一个焦点处，利用收集到的氢原子作用于待清洗样品表面，完成清洗。