[发明专利]供给和分配无气泡光刻化学溶液的系统和方法

权利要求书

1.一种光刻系统，包括：

可变容积缓冲罐；

分配系统，连接至所述可变容积缓冲罐并且配置为将光刻化学溶液从所述可变容积缓冲罐分配至晶圆上；以及

阀，配置为从所述可变容积缓冲罐的顶部空间释放气体，而阻挡从所述顶部空间释放液体；

其中，所述可变容积缓冲罐包括所述光刻化学溶液的入口和出口，其中，当向所述分配系统提供所述光刻化学溶液时，所述光刻化学溶液同时流动通过所述出口和所述入口。

2.根据权利要求1所述的光刻系统，还包括：

存储容器，具有存储容量；以及

连接件，形成用于将液体从所述存储容器传输至所述可变容积缓冲罐的连接；

其中，所述可变容积缓冲罐具有最大容量，所述最大容量大于所述存储容器的存储容量。

3.根据权利要求2所述的光刻系统，其中，用于将液体从所述存储容器传输至所述可变容积缓冲罐的所述连接配置为从所述存储容器的底部排放出所述存储容器的内含物。

4.根据权利要求1所述的光刻系统，其中，所述可变容积缓冲罐包括位于钢性壳内的可折叠衬垫。

5.根据权利要求1所述的光刻系统，其中，所述可变容积缓冲罐包括活塞和汽缸布置。

6.根据权利要求1所述的光刻系统，其中，所述可变容积缓冲罐包括具有多道褶裥的柔性容器。

7.根据权利要求1所述的光刻系统，其中，所述阀是电控阀。

8.根据权利要求7所述的光刻系统，还包括：

气泡检测器，配置为检测所述顶部空间中的气泡；

其中，所述阀配置为响应于由所述气泡检测器检测的所述顶部空间中的气泡而自动打开。

9.根据权利要求1所述的光刻系统，其中，所述可变容积缓冲罐通过开口连接至光刻化学溶液分配系统，所述开口在低于所述顶部空间的高度处离开所述可变容积缓冲罐。

10.根据权利要求1所述的光刻系统，其中，所述分配系统包括正排量泵，所述正排量泵通过每个排量周期可操作地减小所述可变容积缓冲罐的容积。

11.根据权利要求1所述的光刻系统，其中，所述可变容积缓冲罐包括调压系统。

12.一种光刻化学物质供给系统，包括：

存储容器，具有位于底部的开口；以及

可变容积缓冲罐，通过位于所述底部的开口连接至所述存储容器；

阀，配置为从所述可变容积缓冲罐的顶部空间释放气体，而阻挡从所述顶部空间释放液体；

其中，所述可变容积缓冲罐具有比所述存储容器更大的存储容量；

其中，所述可变容积缓冲罐包括光刻化学溶液的入口和出口，其中，当向分配系统提供所述光刻化学溶液时，所述光刻化学溶液同时流动通过所述入口和所述出口。

13.根据权利要求12所述的光刻化学物质供给系统，其中，所述存储容器在所述存储容器的顶部具有与气体源连通的开口。

14.根据权利要求13所述的光刻化学物质供给系统，其中，所述气体源是含氮汽缸。

15.一种向光刻系统供给化学溶液的方法，包括：

从可变容积缓冲罐中泵取化学溶液；

在旋涂仪中分配所述泵取的化学溶液；以及

通过将填充有所述化学溶液的存储容器排空至所述可变容积缓冲罐内来再填充所述可变容积缓冲罐，其中，通过阀从所述可变容积缓冲罐的顶部空间释放气体、而阻挡从所述顶部空间释放液体；

其中，所述可变容积缓冲罐包括所述化学溶液的入口和出口，其中，当通过所述入口再填充所述可变容积缓冲罐，允许所述化学溶液通过所述出口持续地供给分配系统。