[发明专利]MoS2带孔纳米片/石墨烯复合纳米材料及制备方法

权利要求书

1.一种MoS₂带孔纳米片/石墨烯的复合纳米材料，其特征在于，该复合纳米材料由MoS₂带孔纳米片与石墨烯复合构成，所述MoS₂带孔纳米片为单层或少层数的层状结构，MoS₂带孔纳米片与石墨烯之间的物质的量之比为 1:1-1:3。

2.一种权利要求1所述MoS₂带孔纳米片/石墨烯的复合纳米材料的制备方法, 其特征在于，所述制备方法按以下步骤进行：

（1）将氧化石墨烯超声分散在去离子水中，然后加入阳离子型柱[5]芳烃超分子，并充分搅拌；

（2）然后将L-半胱氨酸和钼酸钠依次加入到步骤（1）得到的混合体系中，并不断搅拌使L-半胱氨酸和钼酸钠完全溶解，L-半胱氨酸和钼酸钠用量的物质的量之比为5:1，钼酸钠与氧化石墨烯的物质的量之比为1:1-1:3;

（3）将步骤（2）得到的混合分散体系转移到水热反应釜中，并加入去离子水调整体积至水热反应釜标称体积的80%，阳离子型柱[5]芳烃超分子摩尔浓度为0.001-0.002 mol/L，氧化石墨烯的摩尔浓度为30-65 mmol/L, 将该反应釜放入恒温烘箱里，在220-250℃下水热反应20-24 h后，让其自然冷却至室温，用离心分离收集水热反应固体产物，并用去离子水充分洗涤，在100℃下真空干燥，将得到的水热反应固体产物在氮气/氢气混合气氛中在800℃下热处理2 h，混合气体中氢气的体积分数为10%，最后制备得到MoS₂带孔纳米片/石墨烯的复合纳米材料。