[发明专利]感应耦合等离子体处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及感应耦合等离子体处理装置。

背景技术

在液晶显示装置(LCD)等平板显示器(FPD：Flat Panel Display)制造工序中，存在对玻璃基板进行等离子体蚀刻、成膜处理等的等离子体处理的工序，为了进行这样的等离子体处理，使用等离子体蚀刻装置、等离子体CVD装置等各种等离子体处理装置。作为等离子体处理装置，在现有技术中多使用电容耦合等离子体处理装置，但近来，具有能够得到高真空度且高密度的等离子体的较大优点的感应耦合等离子体(Inductively Coupled Plasma：ICP)处理装置受到关注。

近来，被处理基板的尺寸正在大型化，例如在LCD用的矩形形状玻璃基板中，短边×长边的长度从约1500mm×约1800mm的尺寸增大到约2200mm×约2400mm的尺寸，进而增大到约2800mm×约3000mm的尺寸，大型化显著。

伴随着这种被处理基板的大型化，构成感应耦合等离子体处理装置的顶壁的矩形形状的电介质窗也大型化。然而，构成电介质窗的石英等的电介质材料较脆，因此不利于大型化。因此，在专利文献1中记载了这样一种感应耦合等离子体处理装置，矩形形状的电解质窗采用刚性比石英高的金属窗，并将该矩形形状的金属窗分割，使分割后的金属窗彼此绝缘，由此构成处理室的顶壁。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2012-227427号公报

发明内容

发明想要解决的技术问题

专利文献1所记载的感应耦合等离子体处理装置包括：设置于矩形形状的金属窗的周围的金属支承架；和设置于金属支承架间的多个金属支承梁。专利文献1的结构为：在金属支承架与金属支承梁之间以及金属支承梁与金属支承梁之间被划分的区域，分别悬置有将矩形形状的金属窗分割而形成的多个分割片。即，在专利文献1中，金属支承架和金属支承梁用作载置分割片的载置部，并且多个分割片架设成跨过处理室之上。

然而，专利文献1将金属支承架和金属支承梁用作载置多个分割片的载置部，因此特别是金属支承梁需要用于载置分割片的宽度。

另外，金属支承梁插设于在处理期间处于减压下的处理室与处于大气压下的天线室之间。因此，金属支承梁要求用于支承大气压的较高的强度。从强度的观点出发，专利文献1中的金属支承梁需要将其宽度设定得较宽。

在宽度较宽的金属支承梁之下，难以形成感应电场。特别是将矩形形状的金属窗沿周向分割的金属支承梁与配置在天线室的高频天线平行。因此，流过与流过高频天线的电流相反方向的电流。即反向电动势。基于反向电动势产生的电流随着金属支承梁的宽度变宽而越发显著。当这样的电流变显著时，不仅减弱金属支承梁正下方的感应电场，也减弱金属支承梁周围的感应电场，其结果是，有可能降低在处理室内产生的感应电场的均匀性。当感应电场的均匀性降低时，也对在处理室的内部生产的等离子体的均匀性产生影响。

另外，金属窗的面积根据被处理体的大小而设定。但是，当金属支承梁的宽度变宽时，分割片的总面积占金属窗的总面积的比例下降。如果该比例下降，则在处理室的内部有效地生成感应电场也会变困难。

而且，当分割片兼作向处理室供给处理气体的喷淋头时，随着上述比例变小，喷淋头部的总面积占金属窗的总面积的比例也减小。因此，处理气体的有效供给和均匀性优良的处理气体的供给也变得困难。

本发明是鉴于上述情况而完成的，其技术问题在于提供一种即使具有分割型的金属窗也能够在处理室的内部生成均匀的等离子体的感应耦合等离子体处理装置。

另外，技术问题还在于，提供一种即使具有分割型的金属窗也能够在处理室的内部生成均匀的等离子体，并且能够有效地进行处理气体的供给以及均匀性良好的处理气体的供给的感应耦合等离子体处理装置。

用于解决技术问题的技术方案

为了解决上述问题，在本发明的一个方面中，提供一种感应耦合等离子体处理装置，其对矩形形状的被处理体实施感应耦合等离子体处理，上述感应耦合等离子体处理装置的特征在于，包括：主体容器；和具有导电性的矩形形状的金属窗，其将上述主体容器划分为：收纳上述被处理体并对所收纳的上述被处理体实施感应耦合等离子体处理的处理室；和收纳用于在上述处理室内生成感应耦合等离子体的高频天线的天线室，上述高频天线设置成在上述天线室的内部在与上述矩形形状的金属窗对应的面内回转走线，上述矩形形状的金属窗被分割为相互电绝缘的多个分割片，上述分割片各自由悬挂部件从上述天线室的顶板部吊下，而不架设在其它部件上。