[发明专利]磁记录介质用玻璃基板的研磨方法以及制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及磁记录介质用玻璃基板的研磨方法、磁记录介质用玻璃基板的制造方法。

背景技术

作为磁盘记录装置等所使用的磁记录介质用基板，以往使用铝合金基板。然而近年来，伴随高记录密度化的要求，比铝合金基板硬、平坦性、平滑性优异的玻璃基板成为主流。

磁记录介质用玻璃基板(以下，也记载为“玻璃基板”)具有圆盘形状，该圆盘形状在中心部具有同心圆状的开口部，并且通过进行从玻璃素基板加工为上述形状的工序、研磨主平面的工序、以及研磨端面的工序等来制造磁记录介质用玻璃基板。

研磨玻璃基板的主平面的工序，是将玻璃基板的主平面形成为预期的平坦度、将玻璃基板形成为预期的板厚、将玻璃基板的主平面形成为预期的波纹、粗糙度的工序。作为在研磨玻璃基板的主平面的工序中的研磨方法，公知有使用游离磨粒的研磨、使用固定磨粒工具的研磨等。特别是使用固定磨粒工具的研磨，与由游离磨粒进行的研磨相比，研磨速度(研磨速率)高，并且难以在玻璃基板的表面产生划痕、裂缝等损伤。

因此，寻求利用研磨速度高且难以在玻璃基板的表面产生损伤的固定磨粒工具，对玻璃素基板、或从玻璃素基板加工为圆盘形状的玻璃基板的主平面进行研磨。

但是，在作为研磨对象的玻璃基板的主平面为镜面的情况下，由于固定磨粒工具的磨粒无法嵌入玻璃基板的表面而产生滑动，所以存在研磨速度极度降低的问题。

因此，例如在专利文献1中提出有包括粗糙化工序的磁盘用玻璃基板的制造方法，所述粗糙化工序是在使用固定磨粒的研磨工序(表面磨削工序)前，通过使用游离磨粒的加工、磨砂加工来使板状玻璃的表面粗糙化的工序。

专利文献1：日本特开2012-164417号公报

然而，在专利文献1所记载的方法中，需要在由固定磨粒工具进行的研磨(磨削)之前，通过使用游离磨粒的加工、磨砂加工进行使板状玻璃的表面粗糙化的粗糙化工序。因此存在工序数增加、生产率降低、成本上升等问题。此外，若利用固定磨粒工具对粗糙化后的玻璃基板进行研磨，则有可能缩短固定磨粒工具的寿命。

发明内容

因此，本发明鉴于上述现有技术存在的问题，目的在于提供一种磁记录介质用玻璃基板的研磨方法，即使所研磨的玻璃基板的主平面是镜面，也能够使用固定磨粒工具以较高的研磨速度对玻璃基板的表面进行研磨。

为了解决上述课题，本发明提供一种磁记录介质用玻璃基板的研磨方法，使用固定磨粒工具对作为镜面的玻璃基板的主平面进行研磨，所述磁记录介质用玻璃基板的研磨方法的特征在于，

所述固定磨粒工具的露出于研磨面的磨粒的平均面积为10μm²以上且300μm²以下，

所述固定磨粒工具的研磨面的磨粒露出率为1.1％以上且3.0％以下。

根据本发明的磁记录介质用玻璃基板的研磨方法，即使所研磨的玻璃基板的主平面为镜面，也能够使用固定磨粒工具以较高的研磨速度对玻璃基板的表面进行研磨。

附图说明

图1是双面研磨装置的构成例的说明图。

具体实施方式

以下，参照附图对用于实施本发明的方式进行说明，但本发明不限定于下述实施方式，在不脱离本发明的范围的情况下，能够对下述实施方式施加各种变形以及置换。

首先，对本实施方式的磁记录介质用玻璃基板的研磨方法的构成例进行说明。

本实施方式的磁记录介质用玻璃基板的研磨方法，是使用固定磨粒工具对作为镜面的玻璃基板的主平面进行研磨的磁记录介质用玻璃基板的研磨方法。并且其特征在于，将固定磨粒工具的露出于研磨面的磨粒的平均面积设为10μm²以上且300μm²以下，将固定磨粒工具的研磨面的磨粒露出率设为1.1％以上且3.0％以下。

本实施方式的磁记录介质用玻璃基板的研磨方法，例如能够使用图1所示的双面研磨装置来实施。

图1(A)表示进行主平面研磨时使用的行星齿轮的构成例，图1(B)表示双面研磨装置的示意图。

在研磨玻璃基板的主平面时，如图1(A)所示，在具有能够保持玻璃基板的玻璃基板保持孔11的行星齿轮(主平面研磨用机架)10上设置多个玻璃基板。另外，虽然在图中以设置有圆形的玻璃基板保持孔11的行星齿轮10为例来表示，但不限定于上述方式，而是能够形成与进行研磨的玻璃基板的形状相匹配的玻璃基板保持孔11。例如，如后述那样，在对赋形前的玻璃基板进行研磨的情况下，能够使用具有四边形状的玻璃基板保持孔11的行星齿轮10。