[发明专利]铅粒冷切装置有效
| 申请号: | 201410332247.3 | 申请日: | 2014-07-14 |
| 公开(公告)号: | CN104117680A | 公开(公告)日: | 2014-10-29 |
| 发明(设计)人: | 彭正雄 | 申请(专利权)人: | 江苏金帆电源科技有限公司 |
| 主分类号: | B22F9/04 | 分类号: | B22F9/04 |
| 代理公司: | 张家港市高松专利事务所(普通合伙) 32209 | 代理人: | 陈晓岷 |
| 地址: | 215600 江苏省苏州市张家港市经*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 铅粒冷切 装置 | ||
技术领域
本发明涉及到一种铅粒冷切装置。
背景技术
目前,在铅酸电池制造行业中,制造铅粉的铅粉机需要用90g左右的铅粒作原料。现有一种铅饼造粒机能在冷态下将铅饼直接轧切成铅粒,其结构包括一个机架,机架上设有相互平行的多块侧板,其中的两个侧板间设有两个同步对转的轧辊,两个轧辊的圆柱面上均匀分布有相互独立的大小相同的模腔,每个轧辊的两端分别通过轴承与侧板配合,两个轧辊为空心结构。
其缺点是:铅饼经两个轧辊轧切造粒后,铅粒需经顶出机构从模腔中顶出,而目前所使用的造粒机的顶出机构的结构都较为复杂,使造粒机结构复杂;另外,这种造粒机的挤压的造粒型腔通常为四边形,所制得的铅粒为方形,不利于铅粉制造工艺。
发明内容
本发明的目的就是为了克服现有造粒机结构复杂,所制得铅粒形状的缺陷,而提供一种铅粒冷切装置。
为解决上述问题,本发明采用的技术方案是:铅粒冷切装置,包括机架,机架上设有一对同步对转的轧辊,机架上还设有动力装置,为轧辊提供冷切铅块的工作动力,动力装置通过传动装置驱动轧辊工作,两个轧辊的圆柱面上分布有相互独立的大小相同且交错排列的模腔,两相邻模腔的中间薄壁具有用于铅粒成形的轧切刃,所述的一对轧辊以模腔对模腔、轧切刃对轧切刃的配合方式安装在机架上,所述两个轧辊为空心结构,轧辊内设有凸轮,所述每个模腔的底部设有通孔,通孔中设置有顶杆,顶杆的内端与凸轮相配合。
所述凸轮由凸轮体和凸轮盖组成。
所述凸轮体和凸轮盖相互连接后,在外壁形成环形的倒T型凸轮槽,所述顶杆的内端为与倒T型凸轮槽相配合的T型结构。
所述轧切刃的角度为30°~40°。
所述模腔的形状为多边形,边数大于4。
所述模腔的形状为六边形。
本发明的有益效果是:上述的铅粒冷切装置,其采用凸轮的方式顶出铅粒,结构简单,控制方便,而且可以通过调节凸轮的结构来控制出料的方向。另外,其型腔采用多边形,边数大于4,使铅粒更接近于球形,更利于铅粉机的铅粉制造工艺。
附图说明
图1是本发明中两个轧辊的结构示意图;
图2是图1中单个轧辊的结构示意图;
图3是图1中单个轧辊的轴剖图;
图中:1、轧辊,2、模腔,3、轧切刃,4、通孔,5、顶杆,6、凸轮体,7、凸轮盖,8、倒T型凸轮槽,9、T型结构。
具体实施方式
下面通过具体实施例对本发明所述的铅粒冷切装置作进一步的详细描述。
如图1、图3所示,铅粒冷切装置,包括机架,机架上设有一对同步对转的轧辊1,机架上还设有动力装置,为轧辊1提供冷切铅块的工作动力,动力装置通过传动装置驱动轧辊1工作,如图2所述,两个轧辊1的圆柱面上分布有相互独立的大小相同且交错排列的模腔2,两相邻模腔2的中间薄壁具有用于使铅粒成形的轧刃3,所述的一对轧辊1以模腔2对模腔2、轧切刃3对轧切刃3的配合方式安装在机架上,所述两个轧辊1为空心结构,轧辊1内设有凸轮,所述每个模腔2的底部设有通孔4,通孔4中设置有顶杆5,顶杆5的内端与凸轮相配合。
作为优选方案,如图3所示,所述凸轮由凸轮体6和凸轮盖7组成,凸轮体6和凸轮盖7相互连接后,在外壁形成环形的倒T型凸轮槽8,所述顶杆5的内端为与倒T型凸轮槽8相配合的T型结构9。
作为优选方案,所述轧切刃3的角度为30°~40°。该范围内的轧切刃3的角度既能保证轧切的可靠性,又能防止轧切刃3受损。
作为优选方案,所述模腔2的形状为多边形,边数大于4。本实施例中,所述模腔2的形状为六边形。模腔2的也可以为八边形等形状,使铅粒更接近于球形,更利于铅粉机的铅粉制造工艺,均属于本发明的保护范畴。
本发明的工作原理是:工作时,动力装置通过传动装置驱动轧辊1同步对转,铅饼经两个轧辊1轧切造粒后,铅粒嵌入模腔2内,在轧辊1旋转时,凸轮处于静止状态,随着轧辊1的转动,顶杆5同步转动,并且顶杆5的内端沿着凸轮的外壁中的倒T型凸轮槽8移动,在凸轮曲线作用下,使得顶杆5在轧辊1的模腔2及通孔4中作伸缩运动,从而将位于模腔2内的铅粒顶出,而且可以通过调节凸轮的结构来控制出料的方向。
上述的实施例仅例示性说明本发明创造的原理及其功效,以及部分运用的实施例,而非用于限制本发明;应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。
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