[发明专利]一种大功率微片激光器装置

权利要求书

1.一种大功率微片激光器装置，其特征在于包括有顺次连接的第一泵浦光源(1)、光学耦合系统(2)、被动调Q微芯片(3)、用于聚焦输出的凸透镜(4)、反射镜(5)、第一准直器(6)、以及合束器(7)，所述合束器(7)设有准直输入端、泵浦光输入端、以及合束输出端，合束器(7)准直输入端与第一准直器(6)输出端连接，合束器(7)泵浦光输入端连接有第二泵浦光源(8)，合束器(7)合束输出端顺次连接有用于激光预放大的小芯径双包层增益光纤(9)、泵浦泄露装置(10)、光纤隔离器(11)、光纤模场适配器(12)、用于激光主放大的大芯径多模双包层光纤放大器(13)、以及用于输出的第二准直器(14)。

2.根据权利要求1所述的一种大功率微片激光器装置，其特征在于所述被动调Q微芯片(3)由Nd:YAG激光晶体和Cr:YAG可饱和吸收调Q晶体通过键合而成，其中，Nd:YAG激光晶体靠近光学耦合系统(2)侧。

3.根据权利要求2所述的一种大功率微片激光器装置，其特征在于所述光学耦合系统(2)包括顺次连接在第一泵浦光源(1)与被动调Q微芯片(3)之间的FC/APC泵浦输出头(21)、用于平行输出的第一凸透镜(22)、高反高透保护镜(23)、以及用于将激光聚焦输出到被动调Q微芯片(3)上的第二凸透镜(24)。

4.根据权利要求3所述的一种大功率微片激光器装置，其特征在于所述第一泵浦光源(1)波长为808nm，所述第一凸透镜(22)焦距为30nm，所述高反高透保护镜(23)为波长808nm高反、波长1064nm高透的保护镜，所述第二凸透镜(24)焦距为25nm，所述反射镜(5)为1064nm/45度的反射镜，所述第二泵浦光源(8)波长为976nm，所述大芯径多模双包层光纤放大器(13)内采用掺镱增益光纤进行放大。

5.根据权利要求4所述的一种大功率微片激光器装置，其特征在于所述掺镱增益光纤芯径为30微米，采用两个25W的915nm多模泵浦进行泵浦。