[发明专利]超疏水聚四氟乙烯薄膜及其微纳米压印制备方法与应用在审
| 申请号: | 201410323343.1 | 申请日: | 2014-07-08 |
| 公开(公告)号: | CN104191602A | 公开(公告)日: | 2014-12-10 |
| 发明(设计)人: | 钟敏霖;龚鼎为;张红军;龙江游;范培迅 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
| 主分类号: | B29C59/02 | 分类号: | B29C59/02 |
| 代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人: | 关畅 |
| 地址: | 100084 北京市海淀区北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 疏水 聚四氟乙烯 薄膜 及其 纳米 压印 制备 方法 应用 | ||
1.一种聚四氟乙烯薄膜表面的微纳米压印方法,包括如下步骤:
将聚四氟乙烯薄膜置于具有类荷叶微纳米结构的金属模具上进行热压,热压完毕后卸压冷却至室温,将所述聚四氟乙烯薄膜从所述金属模具表面分离,完成所述聚四氟乙烯薄膜表面的微纳米压印方法。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述聚四氟乙烯薄膜的厚度为0.05-5mm,具体为0.1-1mm。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于:所述热压步骤中,温度为20~380℃,具体为130℃;压力为0-12吨,具体为5-6吨;时间为1-30分钟,具体为15分钟。
4.权利要求1-3任一所述方法得到的具有微纳米凸起结构的聚四氟乙烯薄膜。
5.根据权利要求4所述的薄膜,其特征在于:所述微纳米凸起结构的形状为圆形,直径为12~15μm,高度为20~25μm;所述微米级凸起呈蜂窝状密集分布,所述微米级凸起之间的间距为20~25μm。
6.根据权利要求4或5所述的薄膜,其特征在于:所述微纳米凸起上具有纳米级亚结构;
所述纳米级亚结构的形状为丝状,直径具体为50~700nm。
7.权利要求4-6任一所述具有微纳米凸起的聚四氟乙烯薄膜在超疏水中的应用。
8.权利要求4-6任一所述具有微纳米凸起的聚四氟乙烯薄膜在制备超疏水材料中的应用。
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