[发明专利]一种双视场显示器及其制备方法、驱动方法

权利要求书

1.一种双视场显示器，包括相对设置的彩膜基板和阵列基板，所述彩膜基板或所述阵列基板的一侧设置有狭缝光栅，所述彩膜基板上间隔设置有呈矩阵形式排列的像素单元和第一黑矩阵，其特征在于，

所述狭缝光栅包括间隔设置，并呈矩阵形式排列的遮光区和透光区；

所述透光区部分露出两个水平方向上相邻的所述像素单元；

所述双视场显示器还包括用于防止所述透光区的上方和/或下方区域漏光的阻光部。

2.根据权利要求1所述的双视场显示器，其特征在于，所述阻光部包括位于所述彩膜基板上，对应所述透光区的上方和/或下方区域的第二黑矩阵；

所述第二黑矩阵的宽度大于等于所述透光区的宽度。

3.根据权利要求2所述的双视场显示器，其特征在于，所述像素单元包括相互平行排列的至少一个红色亚像素、一个绿色亚像素以及一个蓝色亚像素。

4.根据权利要求1-3任一项所述的双视场显示器，其特征在于，所述像素单元包括至少一个用于显示黑色画面的暗态亚像素；

所述暗态亚像素包括所述红色亚像素，或所述绿色亚像素，或所述蓝色亚像素；

所述阻光部包括所述暗态亚像素对应所述透光区的上方和/或下方区域的部分。

5.根据权利要求2所述的双视场显示器，其特征在于，所述第二黑矩阵的形状包括：梯形，所述梯形的上底边位于所述透光区内。

6.根据权利要求5所述的双视场显示器，其特征在于，所述第一黑矩阵与所述第二黑矩阵为一体结构。

7.根据权利要求1所述的双视场显示器，其特征在于，所述透光区的高度小于等于竖直方向上两个相邻所述透光区中心间距的一半。

8.根据权利要求1所述的双视场显示器，其特征在于，所述遮光区部分覆盖至少两个水平方向上相邻的所述像素单元，并完全覆盖对应所述遮光区位置的所述第一黑矩阵。

9.一种双视场显示器的制备方法，包括制作阵列基板的方法，其特征在于，还包括：

制作与所述阵列基板相对设置的，由间隔设置并呈矩阵形式排列的像素单元和第一黑矩阵构成的彩膜基板；

制作由间隔设置并呈矩阵形式排列的遮光区和透光区构成的狭缝光栅；

其中，所述透光区部分露出两个水平方向上相邻的所述像素单元；

制作用于防止所述透光区的上方和/或下方区域漏光的阻光部；

将所述狭缝光栅设置于所述彩膜基板或所述阵列基板的一侧。

10.根据权利要求9所述的双视场显示器的制备方法，其特征在于，所述制作用于防止所述透光区的上方和/或下方漏光的阻光部的方法包括：

在所述彩膜基板上，对应所述透光区的上方和/或下方区域的位置制作第二黑矩阵；

所述第二黑矩阵的宽度大于等于所述透光区的宽度。

11.根据权利要求10所述的双视场显示器的制备方法，其特征在于，在所述彩膜基板上，对应所述透光区的上方和/或下方区域的位置制作第二黑矩阵的方法包括：

在所述彩膜基板上，对应所述透光区的上方和/或下方区域的位置制作呈梯形状的所述第二黑矩阵；其中，所述梯形的上底边位于所述透光区内。

12.根据权利要求10或11所述的双视场显示器的制备方法，其特征在于，所述第一黑矩阵与所述第二黑矩阵为一体结构。

13.根据权利要求9所述的双视场显示器的制备方法，其特征在于，所述制作由间隔设置并呈矩阵形式排列的遮光区和透光区构成的狭缝光栅的方法包括：

所述透光区的高度小于等于竖直方向上两个相邻所述透光区中心间距的一半。

14.根据权利要求9所述的双视场显示器的制备方法，其特征在于，所述制作由间隔设置并呈矩阵形式排列的遮光区和透光区构成的狭缝光栅的方法还包括：

所述遮光区部分覆盖至少两个水平方向上相邻的所述像素单元，并完全覆盖对应所述遮光区位置的所述第一黑矩阵。

15.一种双视场显示器的驱动方法，包括向如权利要求4-8任一项所述双视场显示器的阵列基板输入显示信号，进行显示的方法，其特征在于，在像素单元包括暗态亚像素的情况下，所述方法包括：

向所述阵列基板输入控制信号；

所述阵列基板根据所述控制信号，控制所述暗态亚像素对应位置处的液晶进行偏转，使得所述双视场显示器对应所述暗态亚像素的位置显示黑色画面。