[发明专利]低压等离子体消毒装置

权利要求书

1.低压等离子体消毒装置，其特征在于它包含主体(1)、反应控制装置(2)、反应舱(3)、气体入口(4)、高频供电端口(5)、压力控制装置(6)、能源提供装置(7)和气体流量控制装置(8)，主体(1)的内部设置有反应舱(3)，反应舱(3)前侧设置有舱门，反应舱(3)内部设置有气体入口(4)，反应舱(3)的上部设置有反应控制装置(2)，反应舱(3)的后侧设置有高频供电端口(5)和能源提供装置(7)，能源提供装置(7)的一侧设置有压力控制装置(6)，压力控制装置(6)的下方设置有气体流量控制装置(8)，气体流量控制装置(8)通过气体通道与气体入口(4)连接，压力控制装置(6)、能源提供装置(7)均与反应舱(3)的内部连接。

2.根据权利要求1所述的低压等离子体消毒装置，其特征在于它的原理为：等离子体反应本身是一种真空状态下的气体反应，反应舱内将被压力控制装置抽成大约0.1毫巴的真空状态，然后通过气体流量控制装置的气体通道，将特定数量的某种反应气体通入反应舱内，此时反应压力设置为大约0.5～1毫巴之间，之后用微波“点燃”这种气体或者气体混合物，等离子体也就这样产生了，反应舱内由此形成了非常复杂的化学物理性质的“实体”。