[发明专利]清洗装置

权利要求书

1.一种清洗装置，用于污水处理罐内过滤膜支架的清洗，其特征在于，

所述过滤膜支架包括多个依次叠放的振片和由多个所述振片上的通孔构成的清水通道，且在所述过滤膜支架外表面外形成有由污水中的污物形成的过滤膜；相邻所述振片的厚度不相同，且相邻所述振片之间还设置有多个凸起；

所述清洗装置包括：

振动单元，所述振动单元设置在所述清水通道内，用于产生振动；

导气管，所述导气管的一端设置在所述清水通道内，并位于所述振动单元处；和

气体发生装置，所述气体发生装置与所述导气管的另一端相连接。

2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，

所述振动单元设置在所述清水通道的底部。

3.根据权利要求2所述的清洗装置，其特征在于，

所述振动单元为超声波发生装置。

4.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，

所述气体发生装置为空气泵。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的清洗装置，其特征在于，

所述过滤膜支架中，相邻所述振片的外边缘和内边缘均不平齐。

6.根据权利要求5所述的清洗装置，其特征在于，

所述过滤膜支架中，相邻所述振片上的所述凸起相向设置。

7.根据权利要求6所述的清洗装置，其特征在于，

每一所述振片上均设置有多个所述凸起，且多个所述凸起沿所述振片的周向均布。

8.根据权利要求7所述的清洗装置，其特征在于，

所述过滤膜支架中，所述振片为圆形振片，所述通孔为圆形通孔；

相邻所述振片上的所述凸起在同一所述振片上的投影的连线，不过所述振片的圆心。

9.根据权利要求8所述的清洗装置，其特征在于，

多个所述振片包括第一种振片和第二种振片，所述过滤膜支架中，所述第一种振片和所述第二种振片交替设置。