[发明专利]图案形成方法、光刻装置、光刻系统及物品制造方法

说明书

本发明提供一种图案形成方法、光刻装置、光刻系统及物品制造方法。该图案形成方法包括：第一步骤，形成第一图案以限定第一拍摄布置；以及第二步骤，进行压印处理，从而在所述第一图案上的压印材料上形成第二图案，并且限定第二拍摄布置。在所述第二步骤中，修正所述第二拍摄布置，以通过使所述模具变形来减小所述第一拍摄布置和所述第二拍摄布置的重叠误差。在所述第一步骤中，基于在通过使所述模具变形对所述模具上形成的所述第二图案进行修正之后进行所述第二步骤的情况下、所述基板上可限定的估计的所述第二拍摄布置的信息，形成所述第一图案，以使所述第一拍摄布置和所述第二拍摄布置的重叠误差在容许范围内。

技术领域

本发明涉及一种图案形成方法、光刻装置、光刻系统及物品制造方法。

背景技术

压印技术是能够转印纳米级微图案的技术，并作为一种用于磁存储介质和半导体设备的批量生产的光刻技术而投入实际使用。在压印技术中，使用利用电子束描绘装置等形成的具有微图案的模具作为原版(original)，在诸如硅基板或者玻璃板的基板上形成微图案。如下形成这种微图案。将树脂涂布到基板上。在经由树脂将模具图案按压到基板上的同时，用紫外线照射基板，从而使树脂固化。然后，将模具从固化的树脂移除。例如，在日本特开第2010-098310号公报中公开了这种压印技术。

为了实现完整的设备的性能，需要以高精度将模具图案转印到基板上的图案的预定位置。这时，通常将模具上形成的图案形状调整为基板上的图案形状。例如，日本特开第2008-504141号公报提出了包括通过从周边按下或者拉出模具来对模具的图案形状进行校正的校正机构的压印装置。

国际公开第99/36949号公报提出了一种对在不同转印方法的曝光装置之间的各投影光学系统中产生的像差进行校正的方法。在国际公开第99/36949号公报中公开的这种方法将投影光学系统调整为各曝光装置的投影光学系统可容易地校正的形状，并且对该形状进行调整和校正。

然而，压印装置难以通过模具校正机构对模具的图案形状进行大的校正。压印装置可执行的校正方法是有限的。另外，模具可能在诸如接触树脂和模具、填充树脂、光照射、使树脂固化以及移除的一系列压印步骤中变形。特别地，当一次在多个拍摄区域或者基板的整个表面的拍摄区域中进行压印处理时，由于在各个拍摄区域中形成的图案的形状不同，因此在日本特开第2008-504141号公报和国际公开第99/36949号公报中公开的方法中难以进行校正。其结果是，重叠精度可能降低。

发明内容

本发明提供了一种包括用于改善与下层的重叠精度的压印处理的图案形成方法。

本发明在其第一方面提供了一种在基板上形成图案的方法，所述方法包括：第一步骤，在所述基板上的各拍摄区域中形成第一图案以限定第一拍摄布置；以及第二步骤，在所述第一步骤中限定的所述第一拍摄区域中的至少一个拍摄区域中的每个中，进行在使所述基板上的所述压印材料和模具彼此接触的同时使所述压印材料固化的压印处理，从而在所述第一图案上的所述压印材料上形成第二图案，并且限定第二拍摄布置，其中，在所述第二步骤中，修正所述第二拍摄布置，以通过使所述模具变形来减小所述第一拍摄布置和所述第二拍摄布置的重叠误差，并且其中，在所述第一步骤中，基于在通过使所述模具变形来对所述模具上形成的所述第二图案进行修正之后进行所述第二步骤的情况下、所述基板上可限定的估计的第二拍摄布置的信息，形成所述第一图案，以使所述第一拍摄布置和所述第二拍摄布置的重叠误差在容许范围内。