[发明专利]一种背光源、显示装置及其背光控制方法有效

专利信息
申请号: 201410307642.6 申请日: 2014-06-30
公开(公告)号: CN104100886A 公开(公告)日: 2014-10-15
发明(设计)人: 贾智帅;付常佳 申请(专利权)人: 北京京东方视讯科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: F21S8/00 分类号: F21S8/00;F21V14/02;G02F1/13357
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100176 北京市*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 背光源 显示装置 及其 背光 控制 方法
【权利要求书】:

1.一种背光源,包括背板以及设置于所述背板表面的发光单元;其特征在于,所述发光单元包括基底和固定在所述基底上的多个光源,所述基底包括与所述背板表面的中心区域固定的贴合部以及与所述背板表面的非中心区域之间具有预设夹角的可翘曲部;

所述背光源还包括角度控制单元,用于根据观测距离对所述预设夹角进行调整。

2.根据权利要求1所述的背光源,其特征在于,

所述可翘曲部靠近所述背板的一侧表面设置有至少一个第一磁场部;

所述背板靠近所述可翘曲部的一侧表面对应所述第一磁场部的位置设置有至少一个第二磁场部;

对所述第一磁场部和/或所述第二磁场部通电时,所述第一磁场部和所述第二磁场部全部或部分相吸。

3.根据权利要求1所述的背光源,其特征在于,

所述可翘曲部靠近所述背板的一侧表面设置有至少一个所述第一磁场部;

所述背板靠近所述可翘曲部的一侧表面对应所述第一磁场部的位置设置有至少一个所述第二磁场部;

对所述第一磁场部和/或所述第二磁场部通电时,所述第一磁场部和所述第二磁场部全部或部分分开。

4.根据权利要求2或3所述的背光源,其特征在于,

所述第一磁场部由铁质涂层构成,所述第二磁场部由电磁铁构成;或,

所述第一磁场部由所述电磁铁构成,所述第二磁场部由所述铁质涂层构成;或,

所述第一磁场部以及所述第二磁场部均由所述电磁铁构成。

5.根据权利要求4所述的背光源,其特征在于,

当所述第一磁场部由所述电磁铁构成时,所述可翘曲部与所述第一磁场部之间设置有绝缘层;

当所述第二磁场部由所述电磁铁构成时,所述第二磁场部与背板之间设置有所述绝缘层。

6.根据权利要求1所述的背光源,其特征在于,

所述基底为多层印刷电路板。

7.根据权利要求1所述的背光源,其特征在于,所述角度控制单元包括:

触发模块,用于根据所述观测距离发送第一控制信号或第二控制信号;

处理模块,用于根据所述第一控制信号或所述第二控制信号,控制所述第一磁场部和/或所述第二磁场部断电或通电。

8.根据权利要求7所述的背光源,其特征在于,所述触发模块包括:控制按钮、前置摄像头或红外感应灯遥感器件。

9.一种显示装置,其特征在于,还包括如权利要求1-8任一项所述的背光源。

10.一种显示装置的背光控制方法,其特征在于,包括:

角度控制单元根据观测距离对预设夹角进行调整。

11.根据权利要求10所述的显示装置的背光控制方法,其特征在于:

当所述观测距离小于等于预设距离时,所述角度控制单元将第一磁场部和/或第二磁场部断电,所述第一磁场部和所述第二磁场部分开,以形成所述预设夹角;

当所述观测距离大于所述预设距离时,所述角度控制单元向第一磁场部和/或第二磁场部通电,所述第一磁场部和所述第二磁场部相吸,以消除所述预设夹角。

12.根据权利要求10所述的显示装置的背光控制方法,其特征在于,包括:

当所述观测距离小于等于所述预设距离时,所述角度控制单元将第一磁场部和/或第二磁场部通电,所述第一磁场部和所述第二磁场部分开,以形成所述预设夹角;

当所述观测距离大于所述预设距离时,所述角度控制单元向第一磁场部和/或第二磁场部断电,所述第一磁场部和所述第二磁场部相吸,以消除所述预设夹角。

13.根据权利要求11所述的显示装置的背光控制方法,其特征在于,在所述角度控制单元包括触发模块以及处理模块的情况下,所述方法包括:

当所述观测距离小于等于所述预设距离时,所述触发模块发送所述第一控制信号;

所述处理模块根据所述第一控制信号,将所述第一磁场部和/或所述第二磁场部断电,所述第一磁场部和所述第二磁场部分开,以形成所述预设夹角;

当所述观测距离大于所述预设距离时,所述触发模块发送所述第二控制信号;

所述处理模块根据所述第二控制信号,向所述第一磁场部和/或所述第二磁场部通电,所述第一磁场部和所述第二磁场部相吸,以消除所述预设夹角。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京京东方视讯科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经北京京东方视讯科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410307642.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top