[发明专利]测量激光器内量子效率和内损耗的方法有效

专利信息
申请号: 201410307562.0 申请日: 2014-06-30
公开(公告)号: CN104062575B 公开(公告)日: 2017-02-08
发明(设计)人: 汪洋;龚谦;柳庆博;曹春芳;成若海;严进一;李耀耀 申请(专利权)人: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
主分类号: G01R31/26 分类号: G01R31/26;G01M11/02
代理公司: 上海光华专利事务所31219 代理人: 李仪萍
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 测量 激光器 量子 效率 损耗 方法
【权利要求书】:

1.一种测量激光器内量子效率和内损耗的方法,其特征在于,至少包括以下步骤:

S1:提供一半导体激光器,在所述半导体激光器光路上设置一外部光反馈装置;

S2:将所述半导体激光器的腔面与所述外部光反馈装置的镜面等效为一个等效腔面;通过改变所述外部光反馈装置的反射率来调节反馈强度,从而改变所述等效腔面的反射率及所述半导体激光器自身的输出功率;

S3:测量不同反馈强度下所述半导体激光器的电流-功率关系,得到多条斜率不同的I-P曲线;

S4:由所述I-P曲线计算出各反馈强度下的外微分量子效率;

S5:通过所述外微分量子效率与所述外部光反馈装置的反射率的函数关系拟合出所述激光器的内量子效率和内损耗。

2.根据权利要求1所述的测量激光器内量子效率和内损耗的方法,其特征在于:所述外部光反馈装置为数字微镜器件。

3.根据权利要求2所述的测量激光器内量子效率和内损耗的方法,其特征在于:所述数字微镜器件由若干微镜组成矩形阵列,通过改变翻转微镜的数量来改变其反射率。

4.根据权利要求1所述的测量激光器内量子效率和内损耗的方法,其特征在于:于所述步骤S2中,所述等效腔面的反射率通过等效反射率公式得到,所述等效反射率公式为:其中,reff为等效腔面的反射率;r2为半导体激光器腔面的反射率;rd为外部光反馈装置的反射率;L为半导体激光器腔面到外部光反馈装置的距离;β为相位因子,大小为其中λ为半导体激光器的中心波长,n为空气介质的折射率;t为透射系数,大小为其中n'为半导体激光器有源区的折射率,n为空气介质的折射率。

5.根据权利要求4所述的测量激光器内量子效率和内损耗的方法,其特征在于:所述外部光反馈装置的反射率rd通过使用外部光学装置测量得到。

6.根据权利要求4所述的测量激光器内量子效率和内损耗的方法,其特征在于:于所述步骤S4中,由所述I-P曲线计算出各反馈强度下的外微分量子效率的方法为:对所述I-P曲线求微分并代入公式ηd=ehv·dPdI=ehv·d[P1(1-r1)+P1(1-reff)dI(1-r1)=e(2-r1-reff)dP1hv(1-r1)dI,]]>其中,ηd为外微分量子效率,e为电子电量,h为普朗克常数,v为光波频率,P为半导体激光器总的出光功率,P1为半导体激光器的单面出光功率,r1为半导体激光器的腔面反射率,reff为等效腔面的反射率。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海微系统与信息技术研究所,未经中国科学院上海微系统与信息技术研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410307562.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top