[发明专利]一种电磁弹射启动式掩模台系统

说明书

技术领域

本发明涉及一种电磁弹射启动式掩模台系统，该掩模台系统应用于半导体光刻机中，属于半导体制造装备技术领域。

背景技术

光刻机的工件台系统分为掩模台和硅片台两个子系统，为进行硅片上一个chip的曝光，掩模台和硅片台需要分别进行加速运动，并在运动到曝光起始位置时同时达到扫描曝光所要求的4：1的速度。此后，硅片台以均匀的速度向扫描运动方向运动，掩模台以4倍于硅片台扫描速度的速度向与硅片台扫描运动的反方向作扫描运动，两者的运动要求达到极其精确的同步。最终将掩模版上的全部图形成像在硅片的特定芯片(chip)上。当一个chip扫描结束后，掩模台和硅片台分别进行减速运动，同时硅片台进行步进运动，将下一个要曝光的chip移动到投影物镜下方。此后，掩模台向与上次扫描运动方向相反的方向加速、扫描、减速，硅片台则按照规划的方向加速、扫描、减速，在同步扫描过程中完成一个chip的曝光。如此不断重复，掩模台往返进行加速、扫描、减速的直线运动，硅片台按照规划的轨迹进行步进和扫描运动，完成整个硅片的曝光。根据对掩模台的运动要求，掩模台主要提供沿扫描方向往返超精密高速直线运动的功能，其行程应满足chip长度的4倍、并加上加减速的距离；其扫描速度应为硅片台扫描速度的4倍，最高加速度也相应的会高于硅片台的最高加速度。

掩模台在加减速段的加速度通常由驱动电机提供，每个加减速段电机均需要工作，这种启动方式启动时间长，效率低，存在较大能耗。随着半导体制造技术的发展，未来对掩模台的加速度要求会更高，会导致驱动电机的驱动器难以满足。专利文献201110008388.6在掩模台两端分别设置运动永磁体和两个固定在光刻机机架上的静止部分，静止部分可以是电磁铁或永磁体，运动永磁体和静止部分组成振动装置，通过运动永磁体和静止部分之间的斥力增加掩模台的加速度。当静止部分为永磁体时，提供的加速度不够，需要往复加速才能达到所需要的加速度；当静止部分为电磁铁时，电磁铁在每个加减速段均需要通电，会额外增加能耗；当静止部分为永磁体和电磁铁的组合时，启动过程复杂，启动时间长，所以其掩模台启动和停止过程的性能受到限制。

发明内容

为了提高光刻机掩模台的启动和停止阶段的加速度，减少加减速时间，提高光刻机产率，降低能耗，本发明提供一种电磁弹射启动式掩模台系统。

本发明的技术方案如下：

一种电磁弹射启动式掩模台系统，所述掩模台系统包含底座、平衡块组件、掩模台动台和测量系统，所述平衡块组件包括平衡块、掩模台YZ向电机线圈和掩模台X向电机线圈，平衡块和底座之间设有隔振系统；所述掩模台动台包括掩模台动台基底、掩模台YZ向电机磁钢阵列和掩模台X向电机磁钢阵列，掩模台YZ向电机磁钢阵列安装在掩模台动台基底的下表面，掩模台X向电机磁钢阵列安装在掩模台动台基底的垂直于X方向的两个侧面上，其特征在于：所述电磁弹射启动式掩模台系统还包括弹射结构，所述弹射结构包括弹射结构定子磁钢阵列、弹射结构动子磁钢阵列、弹射台、弹射台电机动子、弹射台电机定子和导轨，弹射台电机定子和导轨固定在平衡块上，弹射台电机动子固定在弹射台的底部，所述弹射结构定子磁钢阵列包括第一弹射结构定子磁钢阵列和第二弹射结构定子磁钢阵列，第一弹射结构定子磁钢阵列装在弹射台和掩模台动台基底相对的侧面上；第二弹射结构定子磁钢阵列装在平衡块上，并和第一弹射结构定子磁钢阵列相对；在掩模台动台基底中垂直于Y方向的两个侧面分别布置所述的弹射结构动子磁钢阵列，并与第一弹射结构定子磁钢阵列和第二弹射结构定子磁钢阵列分别相对安装。

平衡块和底座之间的隔振系统采用气浮隔振系统或磁浮隔振系统。所述掩模台YZ向电机磁钢阵列采用halbach阵列。所述测量系统采用激光干涉仪和电容传感器实现六自由度的测量。

本发明所述的电磁弹射启动式掩模台系统具有以下优点及突出性效果：本发明采用电磁弹射进行启动和停止，提高了光刻机掩模台的启动和停止阶段的加速度，减小了加速时间，降低了对掩模台驱动电机的驱动器的要求，并且弹射结构中采用永磁体，降低了能耗。

附图说明

图1是本发明提供的一种电磁弹射启动式掩模台系统初始状态的示意图。

图2是本发明提供的一种电磁弹射启动式掩模台系统掩模台动台的示意图。

图3是本发明提供的一种电磁弹射启动式掩模台系统弹射结构的示意图。

图4是本发明提供的一种电磁弹射启动式掩模台系统工作阶段的示意图。