[发明专利]物理量传感器有效
申请号: | 201410305822.0 | 申请日: | 2014-06-30 |
公开(公告)号: | CN104280182B | 公开(公告)日: | 2017-01-04 |
发明(设计)人: | 矢泽久幸;菊入胜也;高桥亨 | 申请(专利权)人: | 阿尔卑斯电气株式会社 |
主分类号: | G01L9/04 | 分类号: | G01L9/04 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 张莉 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 物理量 传感器 | ||
1.一种物理量传感器,其利用压阻效应来探测物理量,所述物理量传感器的特征在于,具有:
第1导电型的阱层,其形成在第1绝缘层上;和
多个第2导电型的压阻层,其形成在所述第1导电型的阱层的表面侧,
在所述多个第2导电型的压阻层之间,具有从所述第1导电型的阱层的表面贯通至所述第1绝缘层的表面的第2导电型的分离层。
2.根据权利要求1所述的物理量传感器,其特征在于,
所述多个第2导电型的压阻层包含:
第1压阻层,其形成于靠近电源焊盘的位置;和
第2压阻层,其形成于远离所述电源焊盘的位置,
所述物理量传感器构成桥接电路,该桥接电路具有:
第1压阻元件,其具有所述第1压阻层;和
第2压阻元件,其具有所述第2压阻层,
在所述第1压阻元件与所述第2压阻元件之间形成了所述分离层。
3.根据权利要求1或2所述的物理量传感器,其特征在于,
所述第2导电型的分离层形成为包围所述第1导电型的阱层的周围。
4.根据权利要求1或2所述的物理量传感器,其特征在于,
形成所述多个第2导电型的压阻层的所述第1导电型的阱层分别被设置于规定电位。
5.根据权利要求1或2所述的物理量传感器,其特征在于,
具有在所述第1导电型的阱层的表面形成的第2绝缘层,
在位于所述第2绝缘层与所述多个第2导电型的压阻层之间的所述第1导电型的阱层内,将第1导电型的屏蔽层设置为在俯视下与所述多个第2导电型的压阻层相重叠。
6.根据权利要求1或2所述的物理量传感器,其特征在于,
具有:第2绝缘层,其形成在所述第1导电型的阱层的表面;和第2导电型的引出布线层,其与所述第2导电型的压阻层相连接,并且形成在所述第1导电型的阱层内,
在所述第1导电型的阱层内,将第1导电型的屏蔽层设置为与所述第2绝缘层相接触,并且在俯视下与所述第2导电型的引出布线层不重叠。
7.根据权利要求5所述的物理量传感器,其特征在于,
所述第1导电型的屏蔽层与所述第1导电型的阱层设置于相同电位。
8.根据权利要求6所述的物理量传感器,其特征在于,
所述第1导电型的屏蔽层与所述第1导电型的阱层设置于相同电位。
9.根据权利要求1或2所述的物理量传感器,其特征在于,
所述第1导电型的阱层由将2枚硅基板夹着氧化膜粘合而成的SOI基板的一方的硅基板构成。
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