[发明专利]一种用于清除失蜡工艺制品上石膏残垢的清洗剂有效
申请号: | 201410302434.7 | 申请日: | 2014-06-30 |
公开(公告)号: | CN104017677B | 公开(公告)日: | 2017-02-15 |
发明(设计)人: | 林雪春;成建华 | 申请(专利权)人: | 深圳职业技术学院 |
主分类号: | C11D10/02 | 分类号: | C11D10/02 |
代理公司: | 深圳市嘉宏博知识产权代理事务所44273 | 代理人: | 李杰 |
地址: | 518055*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 清除 工艺制品 石膏 洗剂 | ||
技术领域
本发明涉及工业清洗技术领域,具体涉及一种能有效清除失蜡工艺制品上石膏残垢的清洗剂。
背景技术
失蜡铸造工艺是目前首饰、工艺品等制品大批量生产的主要手段。广泛应用于金、银、铜、铅、铜锡合金等金属的制模成型。失蜡工艺制备的产品表面、缝隙内都有大量石膏(CaSO4)残留,不彻底清除这些残垢会影响后续工序如表面电镀,涂饰加工等,成为不合格品。
传统工艺除去石膏残垢的方法是采用氢氟酸,反应原理如下:
CaSO4 + HF = CaF2 + H2SO4
此方法中的氢氟酸,属于严控使用的腐蚀性有危害化学品。生产作业中需要不断添加大量氢氟酸,工作现场氟化氢烟雾挥发严重,严重损害工人健康和污染周边环境。随着环保和劳动保护的要求日渐严格,此方法亟待改进。但由于氢氟酸清除石膏的效果较好,此方法目前依然在实际生产中广泛使用,尚无有效的替代手段。也未见相关专利或文献报道。
发明内容
本发明要解决的技术问题在于:提供一种用于清除失蜡工艺制品上石膏残垢的清洗剂,不使用剧毒的氢氟酸,不产生挥发性有毒气体,具有良好的清除效果,可长效维护使用,具有环保,高效的特点。
为了解决上述技术问题,本发明提出以下技术方案:一种用于清除失蜡工艺制品上石膏残垢的清洗剂,其原液由下列按照重量份数计算的组分组成:
渗透剂 1-30份;
沉淀剂 5-50份;
pH值调节剂 1-4.4份;
腐蚀抑制剂 0.1-0.3份;
表面活性剂 0.1-1份;
水 30-92.7份;
所述渗透剂是下列能提供游离氟离子的酸或盐中的一种或几种的混合物:氢氟酸及其钠盐或钾盐或铵盐;氟硼酸及其钾盐或钠盐或铵盐;氟氢化钠;氟氢化钾;氟氢化铵;
所述沉淀剂为下列能提供磷酸根物质中的一种或几种的混合物:磷酸;磷酸的钠盐或钾盐或铵盐;磷酸一氢钠盐或钾盐或铵盐;磷酸二氢钠盐或钾盐或铵盐;焦磷酸;焦磷酸的钠盐或钾盐或铵盐;六偏磷酸;六偏磷酸钠的钠盐或钾盐或铵盐;
所述pH值调节剂为下列物质中的一种或几种的混合物:磷酸,磷酸钠盐,磷酸钾盐,磷酸铵盐,磷酸一氢钠盐,磷酸一氢钾盐,磷酸一氢铵盐;
所述腐蚀抑制剂为下列物质中的一种或几种的混合物:苯并三氮唑、咪唑啉或NaNO2。
上述技术方案的进一步限定在于:所述表面活性剂可选取阴离子表面活性剂十二烷基硫酸钠、油酸皂类、乙氧基化烷基硫酸钠、非离子表面活性剂烷基酚聚氧乙烯醚中的一种或几种的混合物。
与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:
1、本发明的配方中,由磷酸根与CaF2反应生成更难溶的磷酸钙(Ca3(PO4)2溶度积参数为2.0×10-29),同时释放出氟离子,配方中的F-总体并无减少,除去石膏过程中消耗的是磷酸根,所以,在清洗液工作过程中只要不断补充沉淀剂磷酸根,就可长效维护使用。
2、本发明用于清除失蜡工艺制品上石膏残垢的清洗剂,具有良好的清除石膏残垢的效果,使用过程中不产生挥发性有毒气体氢氟酸,并且可长效维护使用,具有环保、经济高效的特点。
具体实施方式
本发明提出一种用于清除失蜡工艺制品上石膏残垢的清洗剂,其原液由下列按照重量份数计算的组分组成:
渗透剂 1-30份;
沉淀剂 5-50份;
pH值调节剂 1-4.4份;
腐蚀抑制剂 0.1-0.3份;
表面活性剂 0.1-1份;
水 30-92.7份。
所述渗透剂是下列能提供游离氟离子的酸或盐中的一种或几种的混合物:氢氟酸及其钠盐或钾盐或铵盐;氟硼酸及其钾盐或钠盐或铵盐;氟氢化钠;氟氢化钾;氟氢化铵。
所述沉淀剂为下列能提供磷酸根物质中的一种或几种的混合物:磷酸;磷酸的钠盐或钾盐或铵盐;磷酸一氢钠盐或钾盐或铵盐;磷酸二氢钠盐或钾盐或铵盐;焦磷酸;焦磷酸的钠盐或钾盐或铵盐;六偏磷酸;六偏磷酸钠的钠盐或钾盐或铵盐。
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