[发明专利]磁记录介质用无碱玻璃及使用该无碱玻璃的磁记录介质用玻璃基板

权利要求书

1.一种磁记录介质用无碱玻璃，其中，

以基于氧化物的质量％计含有：

SiO₂、Al₂O₃、CaO和MgO的含量满足：

[SiO₂]+0.43×[Al₂O₃]+0.59×[CaO]-74.6≤0、且

[SiO₂]+0.21×[MgO]+1.16×[CaO]-83.0≤0。

2.如权利要求1所述的磁记录介质用无碱玻璃，其中，杨氏模量为94.5GPa以上，比弹性模量为34.5GPa/g·cm^-3以上。

3.一种磁记录介质用玻璃基板，其使用了权利要求1或2所述的无碱玻璃。

4.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，包括使用研磨垫和含有研磨磨粒的pH小于7的研磨液对玻璃基板的主表面进行镜面研磨的镜面研磨工序，并且使用权利要求1或2所述的磁记录介质用无碱玻璃来制造磁盘用玻璃基板，所述制造方法的特征在于，

所述镜面研磨工序中，在由下述式(1)导出的玻璃成分的溶出速率f(μg·cm^-2·分钟^-1)满足下述式(2)的条件下实施镜面研磨，

f＝f₀·10^α·pH+β·exp(-γ/T)  (1)

式(1)中，f₀＝7.93×10⁶，关于α、β，在所述无碱玻璃的SiO₂含量w为60质量％以上时，α＝0.0121×w-1.46、β＝-0.0868×w+4.38，在所述无碱玻璃的SiO₂含量w小于60质量％时，α＝0.0562×w-4.07、β＝-0.381×w+21.8，pH为研磨液的pH值，γ＝5.81×10³，

1×10^-3≤f≤1  (2)。