[发明专利]玻璃基板的蚀刻方法及蚀刻浸泡装置

权利要求书

1.一种玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1、提供待蚀刻的玻璃基板(1)、刻蚀槽(3)、蚀刻药液(6)及供给管路(7)；

步骤2、在刻蚀槽(3)内设置一浸泡槽(9)；

步骤3、所述供给管路(7)向浸泡槽(9)内注入蚀刻药液(6)直至注入预定量的蚀刻药液(6)；

步骤4、将待蚀刻的玻璃基板(1)送入刻蚀槽(3)内；

步骤5、升高浸泡槽(9)直至其内蚀刻药液(6)完全浸没玻璃基板(1)；

步骤6、达到预定浸泡时间后，降低浸泡槽(9)露出玻璃基板(1)。

2.如权利要求1所述的玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，所述浸泡槽(9)的材质为PVC。

3.如权利要求1所述的玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，所述供给管路(7)位于浸泡槽(9)的一侧以注入蚀刻药液(6)。

4.如权利要求1所述的玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，所述浸泡槽(9)的底部两端设有气缸(11)，为步骤5与步骤6中所述浸泡槽(9)的升降提供动力。

5.如权利要求1所述的玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，所述步骤4通过传动装置(13)将待蚀刻的玻璃基板(1)送入刻蚀槽(3)内，所述传动装置(13)包括数个位于刻蚀槽(3)内的滚轮(131)，所述浸泡槽(9)包围该数个滚轮(131)，在步骤5升高该浸泡槽(9)后，所述数个滚轮(131)位于浸泡槽(9)内。

6.如权利要求1所述的玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，在所述步骤3注入到预定量的蚀刻药液(6)时，所述步骤4将待蚀刻的玻璃基板(1)送入到刻蚀槽(3)内预定的位置。

7.如权利要求1所述的玻璃基板的蚀刻方法，其特征在于，所述玻璃基板(1)为用于TFT-LCD的玻璃基板。

8.一种蚀刻浸泡装置，其特征在于，包括刻蚀槽(3)、传动装置(13)、浸泡槽(9)、及供给管路(7)，所述浸泡槽(9)位于刻蚀槽(3)内，所述传动装置(13)包括数个位于刻蚀槽(3)内的滚轮(131)，所述浸泡槽(9)包围该数个滚轮(131)，所述供给管路(7)用于供给蚀刻药液(6)给浸泡槽(9)。

9.如权利要求8所述的蚀刻浸泡装置，其特征在于，所述浸泡槽(9)的材质为PVC。

10.如权利要求8所述的蚀刻浸泡装置，其特征在于，还包括设于所述浸泡槽(9)的底部两端的气缸(11)，为所述浸泡槽(9)于刻蚀槽(3)内的升降提供动力。