[发明专利]一种基于光学检测的微流控芯片及其制备方法

权利要求书

1.一种基于光学检测的微流控芯片，包括上衬底层、下衬底层、夹层，所述夹层位于两个衬底层的中间，其特征在于：所述夹层设置有样品通道和进样孔，所述样品通道由夹层中穿透的凹槽结构和衬底表面构成。

2.根据权利要求1所述的基于光学检测的微流控芯片，其特征在于：所述夹层进样孔的深度小于或等于夹层的厚度。

3.根据权利要求1所述的基于光学检测的微流控芯片，其特征在于：所述夹层和所述衬底采用同一种材料制备。

4.根据权利要求1所述的基于光学检测的微流控芯片，其特征在于：所述衬底设置进样孔，所述衬底进样孔与夹层进样孔连接。

5.根据权利要求1所述的基于光学检测的微流控芯片，其特征在于：所述衬底表面镀有反射膜。

6.根据权利要求5所述的基于光学检测的微流控芯片，其特征在于：所述反射膜为金属膜或介质膜中的一种。

7.根据权利要求6所述的基于光学检测的微流控芯片，其特征在于：所述介质膜的反射膜是通过在衬底上交替生长不同折射率的介质薄膜而成，所述介质膜为Si/SiO2、TiO2/SiO2或GaAs/AlGaAs中的任一种。

8.根据权利要求5所述的基于光学检测的微流控芯片，其特征在于：所述反射膜作为光学反射镜，所述样品通道的上下表面构成一个Fabry-Pérot光学谐振腔，其中谐振腔的腔长等于中间夹层的厚度。

9.一种如权利要求1-8任一所述的基于光学检测的微流控芯片的制备方法，主要包括以下步骤：

第一步：在夹层上制备凹槽结构和进样孔，所述凹槽结构穿透夹层；

第二步：将具有凹槽结构的夹层与上下两个衬底键合在一起，凹槽侧壁和衬底表面构成了样品通道。

10.根据权利要求9所述的基于光学检测的微流控芯片的制备方法，其特征在于：在夹层上制备凹槽结构和进样孔的制造方法采用化学刻蚀、激光切割或机械加工中的一种；所述夹层进样孔的深度小于或等于夹层的厚度。

11.根据权利要求9所述的基于光学检测的微流控芯片的制备方法，其特征在于：所述键合工艺是表面处理工艺或聚合物胶体粘接工艺中的一种，所述表面处理工艺是等离子体或化学溶液中的一种。

12.根据权利要求9所述的基于光学检测的微流控芯片的制备方法，其特征在于：所述衬底和夹层采用同一种材料制备，所述材料选自玻璃材料、有机材料或晶体材料中的任一种，所述晶体材料选自硅、砷化镓或磷化铟中的任一种，所述玻璃材料选自石英玻璃、普通玻璃或有机玻璃中的任一种。

13.一种基于光学检测的微流控芯片传感器，包括：外围进样系统、微流控芯片，传感器信号采集与处理系统以及平台支撑组件，其特征在于：所述微流控芯片为权利要求1-8任一项所述的微流控芯片。