[发明专利]铸嘴装置有效
| 申请号: | 201410288652.X | 申请日: | 2014-06-24 |
| 公开(公告)号: | CN105195698B | 公开(公告)日: | 2017-11-03 |
| 发明(设计)人: | 彭香云;廖文波 | 申请(专利权)人: | 晟通科技集团有限公司 |
| 主分类号: | B22D11/103 | 分类号: | B22D11/103;B22D11/06 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 410200 湖南省长*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 装置 | ||
1.一种铸嘴装置,包括:相对设置的两块上下板,连接两块上下板侧部的边部挡板,以及连接两块上下板、两块边部挡板的底板,底板中部设置熔体入口,熔体入口相对一侧为熔体出口,其特征在于,所述铸嘴装置还包括夹设在两块上下板之间的一级分流单元和二级分流单元;所述一级分流单元到所述底板的距离小于所述二级分流单元到所述底板的距离;所述一级分流单元包括若干截面形状为矩形的且相互间隔设置的一级分流块,所述二级分流单元包括若干截面形状为半圆形的且相互间隔设置的二级分流块,相邻的一级分流块之间设有一级间隔,每个一级间隔正对一个二级分流块设置;
所述一级分流块的数量为≥5的奇数,位于中间的一级分流块正对熔体入口,其长度为熔体入口宽度的1.5-3.5倍;
位于中间的一级分流块的长度为熔体入口宽度的2.5倍;
相邻所述一级间隔的宽度由中间向两端逐渐增大,所述一级分流块的长度由中间向两端逐渐减少;
所述二级分流块的数量为≥5的奇数,位于中间的二级分流块正对熔体入口,相邻所述二级分流块的距离相等。
2.根据权利要求1所述的铸嘴装置,其特征在于,所述一级分流单元到所述底板的距离为35-55mm,一级分流单元中,位于中间的一级分流块的长度为265mm,以中间的分流块中心轴为对称轴,其两侧的一级分流块关于该对称轴对称分布;所述一级分流块由所述熔体入口向任一边部挡板的方向依次设为第n个,n=1,2,3…;第n个一级分流块长度设为Ln,Ln=[122.5-5(n-1)]mm;所述一级间隔由所述熔体入口向任一边部挡板的方向依次设为第x个,x=1,2,3…;第x个一级间隔的宽度设为Wx,Wx=[16+5(x-1)]mm。
3.根据权利要求2所述的铸嘴装置,其特征在于,所述二级分流块的半径值为110mm,相邻所述二级分流块的距离为30mm。
4.根据权利要求3所述的铸嘴装置,其特征在于,所述一级分流单元与二级分流单元的距离为35-55mm。
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