[发明专利]触壁下沉通道式隧道中隔墙及其建造方法有效

专利信息
申请号: 201410285266.5 申请日: 2014-06-24
公开(公告)号: CN104061000A 公开(公告)日: 2014-09-24
发明(设计)人: 陈智慧;任兆丹;陈雪锋;张双茁;何伟奇;陈俊伟;李元昌 申请(专利权)人: 中铁第四勘察设计院集团有限公司
主分类号: E21D9/14 分类号: E21D9/14;E21F16/02
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 张瑾
地址: 430063 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 下沉 通道 隧道 隔墙 及其 建造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种触壁下沉通道式隧道中隔墙及其建造方法,属于地下工程建造技术领域。

背景技术

连拱隧道是地下工程中隧道的一个分类。中隔墙是连拱隧道重要的组成部分,其设计是连拱隧道的关键环节,关系到连拱隧道建设的成败。

现有的各类形式的中隔墙,存在的缺点主要集中表现在:第一,中隔墙顶部与周边岩体易形成空隙,中隔墙底部约束力不强,确保周边牢固与接触密实的施工工艺较复杂。第二,两侧隧道主体结构开挖期间,中隔墙易产生位移,导致变形,甚至开裂,影响主体隧道的可靠性。第三,建成后防排水系统可维护性差,结构难以检修。第四,中隔墙功能简单,且本体混凝土圬工量大,避震作用不明显。

因此有必要设计一种触壁下沉通道式隧道中隔墙及其建造方法,以克服上述问题。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术之缺陷,提供了一种施工较为简单、整体结构较为稳固、避震效果良好的触壁下沉通道式隧道中隔墙及其建造方法。

本发明是这样实现的:

本发明提供一种触壁下沉通道式隧道中隔墙,包括中导洞、中隔墙主体、上部通道、下部通道、左侧通道、右侧通道以及后浇封顶结构;所述中导洞位于两个正洞隧道之间,且其高度低于所述正洞隧道,所述中隔墙主体的底部以面触壁的方式与所述中导洞的下部岩体接触,所述中隔墙主体的上部呈犄角状,并支撑于所述中导洞的顶部;所述上部通道位于所述中隔墙主体中部的上端,所述下部通道位于所述中隔墙主体中部的下端,所述左侧通道位于所述中隔墙主体的左侧,所述右侧通道位于所述所述中隔墙主体的右侧,所述上部通道、所述下部通道、所述左侧通道以及所述右侧通道与所述正洞隧道的贯通方向一致;所述后浇封顶结构设于所述中隔墙主体的顶端,且位于所述上部通道上方。

进一步地,所述下部通道内设有预留孔洞。

进一步地,两个正洞隧道与所述上部通道和所述下部通道之间均设有横通道。

进一步地,所述中隔墙主体的底部比其上部宽。

进一步地,所述中隔墙主体的左侧与右侧呈对称结构。

本发明还提供一种建造触壁下沉通道式隧道中隔墙的方法,包括以下步骤:步骤一:利用全断面法或台阶法开挖所述中导洞;步骤二:在所述中导洞内绑扎钢筋、固定预埋件、预留排水孔洞并架立模板,利用所述上部通道和所述下部通道的内部空间,完成所述中隔墙主体的混凝土浇筑及振捣作业;步骤三:待所述中隔墙主体达到预定强度后,完成所述后浇封顶结构的施工作业;步骤四:在所述下部通道内开设预留孔洞,完成两个正洞隧道的施工后,将衬砌背后的地下水通过所述预留孔洞引排至所述下部通道内。

本发明具有以下有益效果:

1、中隔墙主体设有上部通道,利用所述上部通道开展中隔墙主体上部混凝土浇灌,有效解决了中隔墙主体混凝土浇筑工艺复杂、与中导洞接触不密实的难题,保证了墙体施工质量。待中隔墙主体施工完成后,最后进行顶部后浇封顶,提高了中隔墙主体的整体强度及稳定性。

2、下部通道可作为两侧正洞隧道的排水通道,这样可以完全实现两侧正洞隧道全包防水的效果,改善中隔墙主体自身的排水途径,实现隧道排水污浊分离的目的,同时不需要因地下水的作用,对隧道结构采取额外的加强措施。

3、上部通道和下部通道在不破坏结构整体性、稳定性、可靠性的前提下,既充分利用了中隔墙主体的空间,又有效地减少了混凝土浇筑的体积,节约了工程圬工量,降低了工程造价。上部通道和下部通道在后期运营期间,可以在隧道结构的检修、维护方面发挥积极意义,还可以作为隧道通风的备用通道。

4、所述触壁下沉通道式隧道中隔墙采用中空式的中隔墙主体结构,可以减少后行隧道爆破震动的影响,避震效果大于30%。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为本发明实施例提供的触壁下沉通道式隧道中隔墙的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。

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