[发明专利]固态成像装置、其制造方法、照相机、成像器件和装置无效

专利信息
申请号: 201410275543.4 申请日: 2014-06-19
公开(公告)号: CN104241306A 公开(公告)日: 2014-12-24
发明(设计)人: 荻野昌也 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H04N5/335
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 罗银燕
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 固态 成像 装置 制造 方法 照相机 器件
【权利要求书】:

1.一种包括像素阵列的固态成像装置,在所述像素阵列中布置有包含在半导体基板上形成的光电转换部分的成像像素、以及包含在所述半导体基板上形成的光电转换部分的焦点检测像素,

其中,成像像素和焦点检测像素各自包括:包含在光电转换部分上形成的绝缘层和遮蔽部分的部件,以及设置在部件上的微透镜,以及

成像像素和焦点检测像素中的至少一个的部件包含平板状部件,所述平板状部件具有与绝缘层的折射率不同的折射率。

2.根据权利要求1的装置,其中

平板状部件从互连层的下侧到互连层的上侧跨着互连层被设置。

3.根据权利要求1的装置,其中

满足以下条件中的至少一个:

成像像素的部件的折射率的积分值大于焦点检测像素的部件的折射率的积分值,以及

成像像素的部件中的光路长度大于焦点检测像素的部件中的光路长度。

4.根据权利要求1的装置,其中

部件展示出在与基板表面垂直的方向上的在平板状部件中的折射率变化。

5.一种包括像素阵列的固态成像装置,在所述像素阵列中布置有包含在半导体基板上形成的光电转换部分的成像像素、以及包含在所述半导体基板上形成的至少两个光电转换部分的焦点检测像素,

其中,成像像素和焦点检测像素各自包括:包含在光电转换部分上形成的绝缘层的部件,以及设置在部件上的微透镜,以及

成像像素和焦点检测像素中的至少一个的部件包含平板状部件,所述平板状部件具有与绝缘层的折射率不同的折射率。

6.根据权利要求1或5的装置,其中

成像像素的微透镜和焦点检测像素的微透镜由具有相同的折射率的材料制成并具有相同的形状。

7.一种照相机,包括:

在权利要求1~6中的任一项中限定的固态成像装置;以及

处理器,被配置为处理从固态成像装置输出的信号。

8.一种包括成像像素和焦点检测像素的固态成像装置的制造方法,所述方法包括:

在具有多个光电转换部分的半导体基板上形成部件;以及

在形成部件之后,通过与所述多个光电转换部分对应地设置多个微透镜,形成成像像素和焦点检测像素,

其中,形成部件包含:在成像像素和焦点检测像素中的至少一个中形成平板状部件。

9.根据权利要求8的方法,其中

形成部件包含:在用作焦点检测像素的部分中形成遮蔽部分,以及

遮蔽部分被定位为仅使光瞳图像的一部分进入焦点检测像素的光电转换部分。

10.根据权利要求8的方法,其中

成像像素具有所述多个光电转换部分中的一个光电转换部分和所述多个微透镜中的一个微透镜,以及

焦点检测像素具有所述多个光电转换部分中的两个光电转换部分和所述多个微透镜中的一个。

11.根据权利要求8的方法,其中

形成部件包括:在半导体基板上形成第一绝缘层,在第一绝缘层上形成遮蔽部分,并在遮蔽部分上形成第二绝缘层,以及

在第一绝缘层和第二绝缘层中的至少第二绝缘层上形成平板状部件。

12.一种成像器件,包含在半导体基板上形成的光电转换部分,并包含被布置为彼此相邻的成像像素和焦点检测像素,

其中,成像像素和焦点检测像素包含:具有相同的透镜形状和相同的折射率的微透镜、以及包含在微透镜与半导体基板之间形成的部件和设置在部件中的互连层的结构,

成像像素具有设置在互连层中的第一开口,并且焦点检测像素具有比第一开口小并被设置在互连层中以执行相位差检测的第二开口,以及

成像像素和焦点检测像素中的一个的部件包含具有不同折射率的两个部件,以在焦点检测像素中使微透镜的图像形成位置位于比光电转换部分更接近第二开口的第一位置处,并在成像像素中使微透镜的图像形成位置位于比第一位置更接近光电转换部分的第二位置处。

13.根据权利要求12的器件,其中

所述两个部件之间的界面具有凹形形状或凸形形状。

14.根据权利要求12的器件,其中

所述两个部件之间的界面具有平面形状。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201410275543.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top