[发明专利]沉积掩模组件有效

专利信息
申请号: 201410274708.6 申请日: 2014-06-19
公开(公告)号: CN104233188B 公开(公告)日: 2018-06-12
发明(设计)人: 韩政洹 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C16/04;H01L51/56
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 刘灿强;尹淑梅
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 沉积掩模 掩模框架 掩模 第一表面 开口 彼此面对 沉积图案 组件包括 焊接 邻近
【说明书】:

公开了一种沉积掩模组件,该沉积掩模组件包括:掩模,其中形成有沉积图案;以及掩模框架,固定到掩模的边缘,开口形成在掩模框架的中心。彼此面对的掩模的边缘的第一表面和掩模框架的邻近于所述开口的第一表面彼此焊接。

技术领域

本公开涉及沉积掩模组件。

背景技术

诸如有机发光二极管(OLED)显示器的显示装置是通过在基底上沉积薄膜来制造的。用于沉积显示装置的薄膜的沉积掩模组件通常通过使用运用光刻的蚀刻法以及使用光刻和电解的电成型法来制造。这样的沉积掩模组件位于诸如显示元件的目标对象将要形成在其上的基底处,并且沉积对象通过沉积掩模转移到基底,从而在基底上沉积期望类型的图案。

该背景部分中公开的以上信息只是为了增强对本发明的背景的理解,因此以上信息可能包含不形成本领域普通技术人员在本国已经知道的现有技术的信息。

发明内容

为了提供一种沉积掩模组件,已经做出了本发明的实施例,该沉积掩模组件具有以下优点:能够防止由向掩模的顶表面突出的焊缝所导致的附着到掩模的顶表面的基底的损坏,和/或由掩模和掩模框架之间的焊接所导致的形成在掩模中的沉积图案的损坏。

一个实施例提供了一种沉积掩模组件,该沉积掩模组件包括:掩模,其中形成有沉积图案;以及掩模框架,固定到掩模的边缘,开口形成在掩模框架的中心,其中,掩模的边缘的第一表面和掩模框架的邻近于所述开口的第一表面彼此焊接,其中,掩模的边缘的第一表面和掩模框架的邻近于所述开口的第一表面彼此面对。

多个焊孔可被形成为延伸穿过掩模框架的第一表面。

焊孔可沿着开口的周边形成。

开口可具有四边形的形状。

掩模框架还可包括从掩模框架的第一表面向下延伸的第二表面。

第二表面可沿着开口的周边形成封闭曲线。

掩模框架还可包括面对掩模框架的第二表面的第三表面。

当在远离开口的方向上观看时,第三表面可形成在第二表面的外侧。

用于容纳焊条的焊条插入槽可形成在掩模框架的第二表面和第三表面之间,其中,第二表面和第三表面彼此面对。

根据一个实施例的沉积掩模组件可防止由向掩模的顶表面突出的焊缝所导致的附着到掩模的顶表面的基底的损坏,和/或由掩模和掩模框架之间的焊接所导致的形成在掩模中的沉积图案的损坏。

附图说明

图1是根据实施例的沉积掩模组件的俯视图。

图2是根据实施例的沉积掩模组件的侧视图。

图3至图5示出了图2中示出的掩模和掩模框架的结合工艺。

图6是示出了如何使用根据实施例的沉积掩模组件执行沉积工艺的状态图。

具体实施方式

在下文中,将参照附图详细地描述本发明的某些实施例,使得本发明可以容易地被本领域技术人员实施。如本领域技术人员将认识到的,在不脱离本发明的精神或范围的情况下,可以用各种方式修改所描述的实施例。在附图和本说明书中,为了清楚地描述本发明,省略了与本发明的描述无关的部件或元件,在整个说明书中通常用相同的附图标记指示相同或相似的构成元件。

另外,为了更好地理解和便于描述,任意地示出图中示出的每个组件的尺寸和厚度,但是本发明不限于此。

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