[发明专利]一种流延冷却装置无效

专利信息
申请号: 201410272525.0 申请日: 2014-06-19
公开(公告)号: CN104002421A 公开(公告)日: 2014-08-27
发明(设计)人: 何建雄;王一良 申请(专利权)人: 东莞市雄林新材料科技股份有限公司
主分类号: B29C43/52 分类号: B29C43/52;B29C43/24;B29C47/08
代理公司: 东莞市众达专利商标事务所(普通合伙) 44251 代理人: 刘汉民
地址: 523000 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 冷却 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种吹塑模制备设备,特别涉及一种流延冷却装置。

背景技术

塑料薄膜挤出流延成型需要经过挤出后通过模头前端的缝隙流出,形成薄膜,离开模头后,熔体经过一个短的间隙,到达流延辊,经过熔体与流延辊或冷却辊进行冷却而使其固化。

目前,现有的流延冷却装置在模头挤出时,由于缝隙无法控制,导致形成的薄膜厚度难以控制,使薄膜厚度不均,表面条纹等质量缺陷。

发明内容

本发明的目的是针对现有技术的上述缺陷,提供一种具有自动调节薄膜厚度,冷却速度快的流延冷却装置。

为解决现有技术的上述缺陷,本发明提供的技术方案是:一种流延冷却装置,包括一安装底板,所述安装底板上设有平移安装板,所述平移安装板的一端设有自动升降装置,所述平移安装板的另一端设有平移装置,所述平移安装板的中部设有一直立的安装板,所述安装板的上端边缘设有安装流延棍和冷却辊的安装槽,所述安装板的正面设有驱动安装流延棍的第一驱动电机和驱动冷却辊的第二驱动电机,所述安装板的一侧设有正压风刀装置和用于调节正压风刀装置高度的调节装置。

作为本发明流延冷却装置的一种改进,所述正压风刀装置包括压刀固定座,所述压刀固定座上设有第一压辊支架、第二压辊支架和第三压辊支架,所述第一压辊支架、第二压辊支架和第三压辊支架的末端连接,在所述第一压辊支架、第二压辊支架和第三压辊支架的连接处设有一压辊,所述第二压辊支架和第三压辊支架之间设有一调压辊,所述第一压辊支架上设有一气刀,所述第一压辊支架和所述第二压辊支架之间设有一气刀调节辊。

作为本发明流延冷却装置的一种改进,所述安装板的中部设有一用于清洁所述流延棍的清洁辊。

作为本发明流延冷却装置的一种改进,所述压辊与所述流延棍之间具有一距离a。

作为本发明流延冷却装置的一种改进,所述距离a的值为0.6mm~1.8mm。

作为本发明流延冷却装置的一种改进,所述平移装置上设有一牵引辊支架,在所述牵引辊支架上设有一牵引辊。

作为本发明流延冷却装置的一种改进,所述安装板上还设有一导向辊。

    与现有技术相比,本发明的优点是:本发明采用可以调节模头挤出薄膜厚度的正压风刀装置,正压风刀装置自动调节挤出熔体后的薄膜厚度,气刀调节辊可根据薄膜厚度,调节压辊与流延棍之间的距离,确保挤出的薄膜厚度一致。本发明还具有冷却薄膜速度快的优点。

附图说明

图1是本发明结构示意图。

图2是正风刀结构示意图。

附图标记名称:1、安装底板  2、平移安装板  3、自动升降装置  4、平移装置  5、安装板  6、流延棍  7、冷却辊  8、安装槽  9、第一驱动电机  10、第二驱动电机  11、正压风刀装置  12、调节装置  13、清洁辊  14、牵引辊支架  15、牵引辊  16、导向辊 111、压刀固定座  112、第一压辊支架  113、第二压辊支架  114、第三压辊支架 115、压辊  116、调压辊  117、气刀  118、气刀调节辊 。

具体实施方式

下面就根据附图对本发明作进一步描述。

如图1和图2所示,一种流延冷却装置,包括一安装底板1,安装底板1上设有平移安装板2,平移安装板2的一端设有自动升降装置3,平移安装板2的另一端设有平移装置4,平移安装板2的中部设有一直立的安装板5,安装板5的上端边缘设有安装流延棍6和冷却辊7的安装槽8,安装板5的正面设有驱动安装流延棍6的第一驱动电机9和驱动冷却辊7的第二驱动电机10,安装板5的一侧设有正压风刀装置11和用于调节正压风刀装置11高度的调节装置12。

如图2所示,正压风刀装置11包括压刀固定座111,压刀固定座111上设有第一压辊支架112、第二压辊支架113和第三压辊支架114,第一压辊支架112、第二压辊支架113和第三压辊支架114的末端连接,在第一压辊支架112、第二压辊支架113和第三压辊支架114的连接处设有一压辊115,第二压辊支架113和第三压辊支架114之间设有一调压辊116,第一压辊支架112上设有一气刀117,第一压辊支架112和第二压辊支架113之间设有一气刀调节辊118。

优选的,安装板5的中部设有一用于清洁流延棍6的清洁辊13。清洁辊13用于清洁流延棍6表面多余的薄膜介质,增加薄膜表面的光泽度。

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