[发明专利]一种晶硅太阳能电池钝化材料Al2O3浓度梯度掺杂ZnO薄膜及制备方法有效
申请号: | 201410267305.9 | 申请日: | 2014-06-17 |
公开(公告)号: | CN104037244A | 公开(公告)日: | 2014-09-10 |
发明(设计)人: | 唐立丹;王冰;冯嘉恒;王建中 | 申请(专利权)人: | 辽宁工业大学 |
主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/18 |
代理公司: | 锦州辽西专利事务所 21225 | 代理人: | 李辉 |
地址: | 121001 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 太阳能电池 钝化 材料 al sub 浓度梯度 掺杂 zno 薄膜 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于太阳能电池制备技术领域,特别涉及一种太阳能电池钝化材料Al2O3浓度梯度掺杂ZnO薄膜及其制备方法。
背景技术
晶硅太阳能电池以其成熟的工艺较高的光电转化效率而成为目前应用最为广泛的太阳能电池。然而在晶硅电池的制备过程中,硅片切割、陷光结构制备等过程会在硅片表面造成损伤,表面损伤与制备表面陷光结构的过程使电池表面缺陷态大幅度提高,增加了电子-空穴对的复合率,从而降低了电极对电荷的收集,降低了晶硅太阳电池效率。Al2O3薄膜具有化学钝化与场钝化的双重钝化效果,是目前最为优良的晶硅太阳能电池钝化材料,其已应用于PERC与PERL电池使其光电转化效率达到20%以上。但是,具有一定厚度的 Al2O3薄膜(>10nm)必须引入激光开槽工艺使Al背场与-p-Si相接触以制造良好的欧姆接触;而厚度较小的薄膜(<10nm)又不能达到很好的钝化效果,这使Al2O3钝化薄膜迟迟不能大规模的投入实用。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种晶硅太阳能电池钝化材料Al2O3浓度梯度掺杂ZnO薄膜及制备方法,该薄膜设计合理,制备过程容易操作,对晶硅太阳能电池具有优良的钝化效果,电池光电转化效率高。
本发明的技术解决方案是:
一种晶硅太阳能电池钝化材料Al2O3浓度梯度掺杂ZnO薄膜,其特殊之处在于:
在硅片上有一层厚度为1 nm~10 nm的Al2O3薄膜层,在Al2O3薄膜层有浓度梯度掺杂ZnO薄膜层,所述Al2O3浓度梯度掺杂ZnO薄膜层由Al元素、Zn元素、O元素组成,其中Al2O3浓度梯度掺杂ZnO薄膜层中Al2O3所占比例由下至上依次减小,其电阻率依次降低,Al元素的含量为0.1%~10%,厚度为30nm~100nm,电阻率为10Ω·cm~1 ?10-5Ω·cm。
一种晶硅太阳能电池钝化材料Al2O3浓度梯度掺杂ZnO薄膜的制备方法,其具体步骤如下:
(1)、将硅片放置在原子沉积设备的沉积腔室内,将沉积腔室抽真空,向沉积腔室中通入Al(CH3)3前驱体,用高纯氮气清洗沉积腔室并向沉积腔室内通入水蒸气作为氧源,然后用高纯氮气清洗沉积腔室,在硅片表面形成一次Al2O3沉积层,继续按上述Al2O3沉积方式循环进行10次~100次的Al2O3沉积以形成厚度为1nm~10nm的Al2O3层;
(2)、向沉积腔室中通入Zn(C2H5)2前驱体,用高纯氮气清洗沉积腔室并向沉积腔室内通入水蒸气作为氧源,然后用高纯氮气清洗沉积腔室,在Al2O3层表面形成一次ZnO沉积层,继续按上述ZnO沉积方式重复进行n1次的ZnO沉积,然后按照步骤(1)中Al2O3沉积方式进行1次Al2O3沉积,完成一次Al2O3掺杂ZnO沉积;
(3)按照步骤(2)中Al2O3掺杂ZnO沉积的方式循环进行Al2O3掺杂ZnO沉积,其中当次ZnO沉积的次数比前一次ZnO沉积多沉积一次,以形成厚度为30nm~100 nmAl2O3浓度梯度掺杂ZnO层;
(4)沉积结束后,取出硅片,进行退火,得到晶硅太阳能电池钝化薄膜。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的