[发明专利]耐磨复合金属材料的制造方法在审

专利信息
申请号: 201410265606.8 申请日: 2014-06-13
公开(公告)号: CN104029460A 公开(公告)日: 2014-09-10
发明(设计)人: 徐伟 申请(专利权)人: 苏州汉力新材料有限公司
主分类号: B32B38/08 分类号: B32B38/08;B32B37/02;B32B38/18;B32B15/01
代理公司: 常州市维益专利事务所 32211 代理人: 王涵江
地址: 215600 江苏省苏州市张家港经*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 耐磨 复合 金属材料 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种金属成分的制作方法,具体涉及一种耐磨复合金属材料的制造方法。

背景技术

复合材料是一种混合物。在很多领域都发挥了很大的作用,代替了很多传统的材料。复合材料按其组成分为金属与金属复合材料、非金属与金属复合材料、非金属与非金属复合材料。与普通单增强相复合材料比,其冲击强度、疲劳强度和断裂韧性显著提高,并具有特殊的热膨胀性能。分为层内混杂、层间混杂、夹芯混杂、层内/层间混杂和超混杂复合材料。复合材料60年代,为满足航空航天等尖端技术所用材料的需要,先后研制和生产了以高性能纤维为增强材料的复合材料。为了与第一代玻璃纤维增强树脂复合材料相区别,将这种复合材料称为先进复合材料。先进复合材料除作为结构材料外,还可用作功能材料,但是这些材料缺乏耐磨性。因此,本领域技术人员需研制一种耐磨复合金属材料的制造方法。

发明内容

针对上述问题,本发明的主要目的是提供一种耐磨效果好、生产成本低的耐磨复合金属材料的制造方法。

本发明是通过以下技术方案实现的:提供一种耐磨复合金属材料的制造方法,该方法具有下述步骤:

S01、在底层金属的表面形成铝镁合金层以及抗磨铬铸铁层;

S02、将形成有上述铝镁合金层以及抗磨铬铸铁层的底层金属浸渍于将Zr类化合物处理液中,直至形成Zr类耐磨保护膜;

S03、将形成有上述铝镁合金层以及抗磨铬铸铁层的底层金属放置在真空或氦气气氛中冷却至常温。

优选的,上述处理液中的Zr离子摩尔浓度为0.003mol/L~2mol/L。

优选的,上述底层金属的上述浸渍进行1分钟~20分钟。

优选的,上述处理液的温度为35~75℃。

优选的,该方法还包括:将形成有上述铝镁合金层以及抗磨铬铸铁层的底层金属浸渍于硬脂酸钠溶液或石灰皂溶液中,以在表面形成皂层。

优选的,所述耐磨保护膜的厚度为500微米。

优选的,将形成有上述铝镁合金层以及抗磨铬铸铁层的底层金属放置在真空或氦气气氛中冷却至15℃~35℃。

优选的,将形成有上述铝镁合金层以及抗磨铬铸铁层的底层金属放置在真空或氦气气氛中冷却至20℃。

本发明所述为一种耐磨复合金属材料的制造方法,通过在复合金属材料中添加抗磨铬铸铁层可以提高金属材料的耐磨性能,同时降低复合金属材料的生产成本,提高经济效益,提高产品品质。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本发明的其他优点与功效。本发明还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用,本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用,在没有背离本发明的精神下进行各种修饰或改变。

实施例一

本发明提供提供一种耐磨复合金属材料的制造方法,该方法具有下述步骤:

S01、在底层金属的表面形成铝镁合金层以及抗磨铬铸铁层;

S02、将形成有上述铝镁合金层以及抗磨铬铸铁层的底层金属浸渍于将Zr类化合物处理液中,直至形成Zr类耐磨保护膜;

S03、将形成有上述铝镁合金层以及抗磨铬铸铁层的底层金属放置在真空或氦气气氛中冷却至常温。

本实施例中,上述处理液中的Zr离子摩尔浓度为0.003mol/L~2mol/L;上述底层金属的上述浸渍进行1分钟~20分钟;上述处理液的温度为35~75℃。

其中,所述耐磨保护膜的厚度优选为500微米;该方法还包括:将形成有上述铝镁合金层以及抗磨铬铸铁层的底层金属浸渍于硬脂酸钠溶液或石灰皂溶液中,以在表面形成皂层。

优选的,将形成有上述铝镁合金层以及抗磨铬铸铁层的底层金属放置在真空或氦气气氛中冷却至15℃~35℃。将形成有上述铝镁合金层以及抗磨铬铸铁层的底层金属放置在真空或氦气气氛中冷却优选至20℃。

本发明所述为一种耐磨复合金属材料的制造方法,通过在复合金属材料中添加抗磨铬铸铁层可以提高金属材料的耐磨性能,同时降低复合金属材料的生产成本,提高经济效益,提高产品品质。

上述说明示出并描述了本发明的若干优选实施例,但如前所述,应当理解本发明并非局限于本文所披露的形式,不应看作是对其他实施例的排除,而可用于各种其他组合、修改和环境,并能够在本文所述发明构想范围内,通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本发明的精神和范围,则都应在本发明所附权利要求的保护范围内。

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