[发明专利]钕铁硼磁体电镀镍方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种电镀方法，尤其是涉及一种钕铁硼磁体电镀镍方法。

背景技术

电镀工艺能有效的对磁体起到防护装饰性作用，目前已广泛应用于钕铁硼磁体表面防护处理。电镀工艺种类很多，比如电镀镍、电镀铜和电镀锡等工艺。其中电镀镍工艺在钕铁硼磁体表面形成的电镀镍层结晶细小，且在空气中稳定性高，是目前使用较多的一种电镀工艺。现有的钕铁硼磁体的电镀镍工艺主要包括预镀镍、半光镍和光亮镍，预镀镍工艺中采用的是由硫酸镍、氯化镍和硼酸组成的电镀液，半光镍工艺中采用的是由硫酸镍、氯化镍、硼酸和半光亮剂组成的电镀液，光亮镍工艺中采用的是由硫酸镍、氯化镍、硼酸和光亮剂组成的电镀液。但是现有的钕铁硼磁体的电镀镍工艺存在以下问题：一、一方面预镀镍工艺中电极对钕铁硼磁体磁性能造成不良影响，另一方面由于预镀镍工艺中使用的电镀液存在氯离子，而钕铁硼磁体在预镀镍工艺中直接与氯离子接触，钕铁硼磁体基体被氯离子腐蚀，由此导致电镀完成后的钕铁硼磁体的磁性能下降较多，磁性能较差；二、对于端部角度较小的产品(即具有尖端部分的产品)，由于尖端放电效应，在电镀过程中较多电子会在钕铁硼磁体尖端聚集，引发大量镍离子放电沉积，由此导致镀层厚度均匀分布性较差。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种可以减少电镀过程对钕铁硼磁体的磁性能的影响，保证钕铁硼磁体具有较好的磁性能，并且对于端部角度较小的产品进行电镀时，其镀层厚度均匀分布性也较好的钕铁硼磁体电镀镍方法。

本发明解决上述技术问题所采用的技术方案为：一种钕铁硼磁体电镀镍方法，包括以下步骤：

①对钕铁硼磁体进行前处理；

②预镀镍：将前处理后的钕铁硼磁体放入第一电镀镍溶液中进行预镀镍处理，时间为2500～5500秒，其中第一电镀镍溶液由硫酸镍、硼酸、琥珀酸酯钠盐、羧乙基磺酸钠和水组成，硫酸镍的质量体积浓度为220～380克/升，硼酸的质量体积浓度为30～60克/升，琥珀酸酯钠盐的质量体积浓度为5～20毫克/升，羧乙基磺酸钠的质量体积浓度为5～20毫克/升，预镀镍处理过程中电流密度为0.1～0.6安培/平方分米，第一电镀镍溶液的温度为40～65摄氏度，PH值为3.5～4.8；

③采用去离子水对预镀镍处理过的钕铁硼磁体进行多次清洗；

④镀半光镍：将清洗后的钕铁硼磁体放入第二电镀镍溶液中进行镀半光镍处理，时间为3500～6500秒，第二电镀镍溶液由硫酸镍、柠檬酸氢二铵、硼酸、氨水和水组成，硫酸镍的质量体积浓度为100～210克/升，柠檬酸氢二铵的质量体积浓度为65～145克/升，硼酸的质量体积浓度为10～40克/升，氨水的质量体积浓度为20～60毫升/升，镀半光镍处理过程中电流密度为0.2～0.7安培/平方分米，第二电镀镍溶液的温度为40～65摄氏度，PH值为5.5～7.5；

⑤采用去离子水对镀半光镍处理过的钕铁硼磁体进行多次清洗，清洗过程中设置有超声波清洗，超声波功率为2000W,频率为20～60KHz；

⑥镀光亮镍：将清洗后的钕铁硼磁体放入第三电镀镍溶液中进行镀光亮镍处理，时间为2500～5500秒，第三电镀镍溶液由硫酸镍、氯化镍、硼酸、糖精钠和水组成，硫酸镍的质量体积浓度为220～380克/升，氯化镍的质量体积浓度为20～60克/升，硼酸的质量体积浓度为30～60克/升，糖精钠的质量体积浓度为5～20毫克/升，镀光亮镍处理过程中电流密度为0.1～0.6安培/平方分米，第三电镀镍溶液的温度为40～65摄氏度，PH值为3.5～4.8；

⑦采用去离子水对镀光亮镍处理过的钕铁硼磁体进行多次清洗，清洗过程中设置有超声波清洗，超声波功率为2000W,频率为40～138KHz。

所述的前处理工艺包括以下步骤：

①-1酸洗：采用稀硝酸溶液作为酸洗液对钕铁硼磁体进行酸洗；

①-2水洗:采用去离子水对酸洗后的钕铁硼磁体进行多次清洗，清洗过程中设置有超声波清洗，超声波功率为2000W,频率为20～60KHz；

①-3将水洗后的钕铁硼磁体放入电解槽中进行电解处理，电解处理时间为200～450秒，电解液由氢氧化钠、碳酸钠和水组成，氢氧化钠的质量体积浓度为20～60克/升，碳酸钠的质量体积浓度为10～40克/升，电解处理过程中电流密度为0.2～0.7安培/平方分米，电解液温度为30～60摄氏度；

①-4水洗:采用去离子水对电解后的钕铁硼磁体进行多次清洗，清洗过程中设置有超声波清洗，超声波功率为2000W,频率为20～60KHz。